版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認領(lǐng)
文檔簡介
1、浙江大學(xué)碩士學(xué)位論文離子輔助沉積對薄膜特性的影響姓名:張德景申請學(xué)位級別:碩士專業(yè):光學(xué)工程指導(dǎo)教師:顧培夫20040228碩士生畢業(yè)論文_。_。_。___——‘_。。。_。_—__。。。____。。?!?,。。。___。。。。‘—,—’。。_。。。?!?’———一ABSTRACTInthisdissertation,thinfilmsaredepositedonK9glasssubstratesusinganebeamgun
2、evaporationwithtowenergyoxygenionassisteddeposition(1AD)fromallendHallionsourceAcomparisonoftheopticalandmechanicalperfoHIlanceismadebetweenwithIADandwithoutIADTheresearchedthinfilmsincludesmonolayerthinfilmsandmultilaye
3、rthinfilms1TheresearchofmonolayerthinfilmsInthepaper,Tllreemololayerthinfilms—Ti02、Ta20s、Nb205oxidedielectricthinfilmsarestudiedAcomparisonoftheopticalandmechanicalperformanceismadebetweenwithIADandwithoutIADTheopticalpe
4、rformancesincludetherefractiveindex、theextinctioncoefficient、thepackingdensity、thevaccum—toairshiftandtheAFMimagesofthesurface;ThemechanicalperfomlancesincludetheadhesionandthehardnessWeobservethatfilmsdepositedwithiolla
5、ssistaremuchmoreprofitablethanthosedepositedwithoutionassistTheIADincreasesthepackingdensityofNb205filmsbv14%,hencetherefractiveindexarisesfrom203upto218andtheadhesionarisesfromaboutl107N/m‘to1297107N/m2:ThejADincreasest
6、hepackingdensityofTa205filmsby13%,hencetherefractiveindexarisesfrom203upto223;TheIADincreasesthepackingdensityofTi02filmsby20%hencetherefractiveindexarisesfrom203upto2372TheresearchofmultilayerthinfilmsZnS/MgF2、Nb20flSi0
7、2、Ti02/Si02narrowbandinterferencefiltersaredepositedby1ADwithanend—hallionsourceComparedtothespecimensproducedbyconventionalprocessdeposition,wediscoverthatspectralshift(A^)ofthefilterisreducedobviouslybyusinglADThetypie
8、alresultshowsthatthespectralshiftofZnS/MgF2narrowbandinterferencefiltersislessthan05nmTheformulaforestimatingpackingdensityofthefilmswasputforwardintermsofthemeasuredAXandthepackingdensityofMgF2layersinthefilterswascalcu
9、latedThecalculateddensityofMgF2withlADwaSincreasedfrom0,70forconventionalprocessto097MeanwhilewefindthatthespacerlayerhasagreatinfluenceonthespectralshiftThefurtherthelayersareawayfromthespacerthelesstheeriect;Inthesamew
10、ay,theIADreducesthespectralshiftofNb205/Si02narrowbandinterferencefiltersfrom294rimto124nm;The1ADreducesthespectralshiftofTi02/Si02narrowbandinterference丘Itersfrom247nmto84rimInconclusion,weobservethatbothmonolayerthinfi
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 離子輔助沉積氧化物薄膜的特性分析.pdf
- 離子液體輔助沉積Cu2ZnSnS4薄膜.pdf
- 離子束輔助沉積氮化鈦薄膜的能窗優(yōu)化.pdf
- 離子束輔助真空電弧沉積TiN-CNx薄膜的研究.pdf
- 感應(yīng)耦合等離子體增強射頻磁控濺射特性及其對沉積ZrN薄膜影響的研究.pdf
- 基于ECR等離子體輔助脈沖激光沉積的薄膜沉積和原位摻雜.pdf
- ECR等離子體輔助脈沖激光沉積薄膜的若干應(yīng)用.pdf
- 氟摻雜SiCOH薄膜沉積的等離子體化學(xué)特性研究.pdf
- 金屬中氫對氦行為影響及ECR輔助沉積含氦薄膜的研究.pdf
- 外部等離子體輔助磁控濺射低溫沉積氮化鈦薄膜的研究.pdf
- 介質(zhì)薄膜對離子流阻擋特性的實驗研究.pdf
- 硅基薄膜高速沉積過程中的等離子體特性研究.pdf
- 離子束輔助真空電弧沉積納米ZrN及(Zr,Me)N薄膜的研究.pdf
- 等離子體沉積Si-SiOx納米顆粒薄膜及發(fā)光特性的研究.pdf
- 離子束濺射沉積制備TiO2薄膜及其光學(xué)特性研究.pdf
- 微波等離子體及其功能薄膜沉積.pdf
- 沉積氣壓對ZnO薄膜的結(jié)構(gòu)與光學(xué)性能影響.pdf
- 沉積條件對ZnTe與ZnTe:Cu薄膜性能的影響.pdf
- ITO薄膜的制備及通電電流對薄膜特性的影響.pdf
- 反應(yīng)磁控濺射沉積AlN薄膜特性研究.pdf
評論
0/150
提交評論