非晶軟磁薄膜巨磁阻抗效應及應力阻抗效應研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、本文系統(tǒng)研究了非晶態(tài)FeCuNbCrSiB軟磁薄膜材料的最佳制備工藝條件及在最佳條件下制備的FeCuNbCrSiB單層膜、三明治結構多層膜的巨磁阻抗效應及應力阻抗效應。主要研究結果如下：

2、 1.研究了單層膜的最佳工藝條件。結果表明，最佳工藝條件為：氬氣氣壓4×10-2Torr，氬氣流量13SCCM，濺射功率600W，濺射中施加外磁場為16KA/m。2.實驗研究發(fā)現(xiàn)，非晶態(tài)三明治結構多層膜的GMI變化率最大值可達-21％左右，而相同僅有4.3％左右。3.實驗研究發(fā)現(xiàn)，曲折狀三明治結構多層膜的GMI變化率最大值可達-65％左右，另外發(fā)現(xiàn)各層寬度對樣品的

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