磁致冷材料Gd表面磁控濺射薄膜耐腐蝕性能研究.pdf_第1頁(yè)
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文檔簡(jiǎn)介

1、本研究利用磁控濺射技術(shù)，在純Gd表面分別濺射不同膜材(Ti、1Cr18Ni9Ti、 Al、 Cu)的防腐覆蓋層，通過(guò)水腐蝕、電化學(xué)腐蝕及絕熱溫變等性能的測(cè)試，得出以下結(jié)論: (1)濺射Ti膜提高了Gd的自腐蝕電位，降低了極化電流密度，而且在不同介質(zhì)中腐蝕率遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于Gd，具有較好的耐蝕性，同時(shí)最大絕熱溫變接近于Gd; (2)濺射1Cr18Ni9Ti膜提高了Gd的自腐蝕電位，并降低極化電流密度，然而，水腐蝕實(shí)驗(yàn)中，由于各組元

2、濺射率不同，導(dǎo)致膜層成分與靶材成分有所差異，以及Cr分布不均勻，造成耐蝕性降低，而且對(duì)Gd最大絕熱溫變也有一定程度的影響; (3)濺射A1膜后有效地提高了Gd的自腐蝕電位，降低了極化電流密度，而且在水體系中具有良好的耐蝕性，僅次于Ti膜。同時(shí)對(duì)純Gd的磁熱效應(yīng)影響不大，可忽略不計(jì); (4)濺射Cu膜盡管提高了Gd的自腐蝕電位，降低極化電流密度，并且對(duì)Gd最大絕熱溫變影響不大，但由于與基體Gd界面處結(jié)合不好，在不同介質(zhì)中，

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