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文檔簡介
1、寬帶Ⅱ-Ⅵ族半導體材料,尤其是ZnSe和ZnTe及其合金具有寬帶隙、直接帶躍遷、激子束縛能大等優(yōu)點而作為藍和藍綠發(fā)光、激光以及在該波段響應的光學雙穩(wěn)和光學非線性的重要候選材料。以往的寬帶Ⅱ-Ⅵ族半導體都是以GaAs為襯底材料的,這就造成了寬帶Ⅱ-Ⅵ族半導體光電子材料與Si基微電子技術(shù)的分離。為了解決這一問題,人們嘗試在Si襯底上進行光子材料的制備。本文中,我們利用ZnO與Si襯底上氧化層—SiO_x有很好的浸潤性這一特點,采用ZnO作為
2、緩沖層,用低壓-金屬有機物氣相沉積(LP-MOCVD)設備在Si襯底上生長ZnSe和ZnTe薄膜以及ZnCdSe/ZnSe和ZnCdTe/ZnTe量子阱結(jié)構(gòu),并對其發(fā)光特性進行了研究,獲得的主要研究結(jié)果如下:1、在Si襯底上獲得了較高質(zhì)量的ZnO薄膜。采用對Si襯底進行氮化的方法,利用MO-PECVD生長ZnO薄膜,其XRD譜的FWHM為0.20°。采用電子束蒸發(fā)的方法在Si襯底上生長ZnO薄膜,通過退火實驗,得到了最佳的退火條件。2、
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