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
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文檔簡介
1、電沉積潤滑鍍層有利于提高金屬表面的耐磨、耐蝕性能,在貧油工況或一些不能施加潤滑油的特殊潤滑體系中,顯示出很大的優(yōu)越性。潤滑復(fù)合鍍層的添加微粒多為導(dǎo)電微粒,如MoS2、石墨等,導(dǎo)電的微粒粘附于陰極表面上,由于表面尖端效應(yīng),會使表面粗糙度增加,甚至形成樹枝狀結(jié)晶。
本文采用微粒改性技術(shù)在MoS2微粒表面包覆絕緣材料,研究并優(yōu)化包覆工藝,觀察包覆微粒表面形貌,及分析微粒包覆表面成分。采用復(fù)合鍍制備含有包覆微粒MoS2/Al2O3
2、的鎳基潤滑鍍層,解決由于MoS2微粒的電導(dǎo)性引起的鍍層樹枝狀結(jié)晶問題;研究分散劑對鍍液中微粒分散性的影響,研究包覆微粒的復(fù)合鍍工藝并優(yōu)化其最佳工藝參數(shù);建立包覆微粒在復(fù)合鍍中的沉積模型,研究包覆微粒在鍍層中的分布,用掃描電鏡觀察鍍層表面形貌,用XRD分析相結(jié)構(gòu)變化;研究鍍層的結(jié)合強(qiáng)度、顯微硬度、摩擦磨損性能及耐腐蝕性能。
采用電解加工技術(shù)制備織構(gòu)化微孔,通過改變暴露面積、電流密度、電解時(shí)間,從而獲得不同尺寸、深度及分布的織
3、構(gòu)化微孔。采用電沉積技術(shù)在表面織構(gòu)化微孔中沉積Ag-MoS2/Al2O3潤滑鍍層,制備織構(gòu)化表面Ag-MoS2/Al2O3潤滑鍍層。織構(gòu)化表面Ag-MoS2/Al2O3潤滑鍍層與GCrl5鋼進(jìn)行環(huán)/盤式摩擦磨損試驗(yàn),測試不同直徑、間距等織構(gòu)參數(shù)對織構(gòu)化表面Ag-MoS2/Al2O3潤滑鍍層摩擦磨損性能的影響,用織構(gòu)化表面MoS2干膜潤滑做摩擦磨損性能的對比研究。
研究了Al2O3或PS包覆MoS2微粒的工藝,Al2O3包覆
4、MoS2微粒的最佳工藝為,溫度80℃,pH值7.0,Al3+濃度為0.2mol/L;XPS檢測結(jié)果表明MoS2微粒表面成功地包覆了均勻完整的Al2O3層。PS包覆MoS2最佳工藝為:引發(fā)劑為0.2wt%的偶氮二異丁腈AIBN)(基于苯乙烯單體質(zhì)量分?jǐn)?shù)),聚合時(shí)間為2h,苯乙烯單體與微粒用量的比例為1ml∶10g,得到包覆均勻、不團(tuán)聚的PS/MoS2復(fù)合微粒。
本文采用電沉積技術(shù)制備減摩復(fù)合鍍層,得出以下結(jié)論:十六烷基溴化銨
5、(CTAB)用量在0.4mg/l時(shí),微粒在鍍液中的分散性達(dá)到最優(yōu);在各個(gè)用量時(shí)對比,CTAB對鍍液中微粒的分散性均優(yōu)于OP-10及十二烷基磺酸鈉。優(yōu)化出復(fù)合鍍最佳工藝參數(shù)為:電鍍液中微粒濃度為25g/l,電流密度為11A/dm2,攪拌速度為600rpm,pH值為4.5,溫度為55℃;對比包覆微粒MoS2/Al2O3與MoS2微粒對鍍層性能的影響,在相同的條件下,MoS2/Al2O3微粒在鍍層中的沉積量均高于未包覆微粒的沉積量;MoS2微
6、粒的鍍層出現(xiàn)樹枝狀結(jié)晶,而包覆微粒MoS2/Al2O3的鍍層則避免了樹枝狀結(jié)晶的出現(xiàn),鍍層表面形貌平整,厚度均勻;梯度復(fù)合鍍層的結(jié)合力優(yōu)于普通復(fù)合鍍層,包覆微粒在鍍層中的分布均勻。
對復(fù)合鍍層的摩擦磨損、腐蝕性能進(jìn)行了研究,并探討了耐磨、耐蝕機(jī)理,結(jié)果表明:用PS包覆MoS2微粒的復(fù)合鍍層摩擦系數(shù)低于MoS2復(fù)合鍍層,而用Al2O3包覆MoS2微粒的復(fù)合鍍層摩擦系數(shù)高于MoS2,鍍層的摩擦系數(shù)都隨著復(fù)合鍍層中微粒含量的增加
7、而降低。用掃描電鏡和光學(xué)顯微鏡觀察磨痕表面形貌,能譜分析和XPS分析磨痕成分變化,結(jié)果表明結(jié)果表明在摩擦磨痕表面形成潤滑膜,對磨陶瓷球表面形成了減摩潤滑轉(zhuǎn)移膜。PS或Al2O3包覆微粒的鍍層具有較好的耐蝕性,這是由于在相同的腐蝕介質(zhì)中,復(fù)合鍍層的腐蝕電位增大,而腐蝕電流減小。
結(jié)果表明:織構(gòu)化表面Ag-MoS2/Al2O3潤滑鍍層比織構(gòu)化表面MoS2干膜潤滑和光滑表面具有更好的摩擦磨損性能,當(dāng)表面織構(gòu)化的微孔和微孔間距均為
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