微流控光學(xué)變焦透鏡陣列芯片的性能表征與檢測(cè).pdf

1、隨著微流控技術(shù)水平的不斷提高，微流控光學(xué)技術(shù)已展示出其在光信息領(lǐng)域的廣闊實(shí)用價(jià)值。微流控光學(xué)變焦透鏡陣列結(jié)合光學(xué)陣列與電控的特性，基于介質(zhì)上電潤(rùn)濕原理，突破了傳統(tǒng)變焦透鏡通過移動(dòng)鏡頭來調(diào)整焦距的局限，可以改變微光學(xué)系統(tǒng)的光通量和視場(chǎng)性能，具有良好的操控性和適應(yīng)性，擴(kuò)展延伸了透鏡陣列的應(yīng)用范圍，實(shí)現(xiàn)陣列維數(shù)的實(shí)時(shí)調(diào)控和任意的光路傳輸功能。本文主要在課題組提出的微流控光學(xué)變焦透鏡陣列的研制的基礎(chǔ)上做了以下的工作：
　　 1)利用介質(zhì)

2、上電潤(rùn)濕原理，設(shè)計(jì)了EWOD測(cè)量系統(tǒng)，結(jié)合圖像處理方法，得到了導(dǎo)電液滴在固體介電層上的接觸角，并利用Young-Lippmann方程提出了一種測(cè)量導(dǎo)電液體的表面張力的新方法，為新型微流控光學(xué)變焦透鏡陣列器件的優(yōu)化設(shè)計(jì)和研制提供重要的實(shí)驗(yàn)依據(jù)。
　　 2)闡述了研究微流控光學(xué)變焦透鏡陣列芯片表面的光潔程度的意義，介紹了表面光潔程度的檢測(cè)方法，設(shè)置了具體的測(cè)量裝置，提出了芯片表面光潔程度的度量方法。
　　 3)根據(jù)制作的微流