鋼基表面氧化鋁薄膜制備的研究.pdf

1、磁控濺射法制備Al<,2>O<,3>薄膜具有高沉積速率、成膜質(zhì)量好等特點，尤其是成膜溫度低，不影響基材的性能，所以很適用于金屬表面改性。但資料表明，國內(nèi)在鋼基上制備Al<,2>O<,3>薄膜的研究報道較少。本文主要研究鋼基上用射頻磁控濺射法制備A1l<,2>O<,3>薄膜。 本實驗采用Al<,2>O<,3>作為靶材，用射頻磁控濺射的方法，通過調(diào)節(jié)濺射功率，濺射氣壓，濺射時間等工藝參數(shù)，在40Cr基體上制備了Al<,2>O<,3>

2、薄膜，借助SEM、X射線衍射、傅立葉紅外光譜等測試手段，分析了薄膜的表面形貌、組織結(jié)構(gòu)、成分，鍵合等情況。通過摩擦磨損和劃痕等試驗研究了濺射工藝參數(shù)、預(yù)處理工藝和Ni-P中間層對薄膜摩擦系數(shù)和結(jié)合力的影響。 研究結(jié)果表明：濺射態(tài)制備的Al<,2>O<,3>薄膜為非晶態(tài)，傅立葉紅外光譜證實了薄膜中Al-O鍵的存在；用射頻磁控濺射方法，濺射功率為250W，時間為3小時，氣壓為5.0Pa，時制備的薄膜表面光滑致密，結(jié)合力良好?；w的腐