化學復合鍍技術在硅基外延層轉移中的初步應用研究.pdf

1、本論文主要對單晶硅上的外延薄膜轉移到化學鍍鍍層進行了初步研究。通過化學鍍的方法，增強外延薄膜的耐腐蝕性和硬度，同時對單晶硅襯底進行腐蝕。研究表明，這種鍍層轉移具備可行性。 為增強外延薄膜的耐腐蝕性能，實驗研究出化學復合鍍Ni-P-PTFE技術，在膜的外層鍍覆Ni-P-PTFE鍍層。利用SEM，EDS分別對鍍層的微觀形貌和鍍層中的PTFE含量進行了表征，確定最佳制備工藝：鍍液的pH=4.7，溫度為92℃，PTFE乳液20ml／L，

2、分散劑FC-134 0.8g/L，使鍍層中PTFE的含量重量百分比最高達到20％。利用電化學阻抗測試對一系列不同含量PTFE的鍍層的耐腐蝕性能進行了表征。結果表明，鍍層的PTFE含量越高，耐腐蝕性能越強。 為方便加工處理，實驗對化學復合鍍Ni-P-SiC技術進行了研究。并利用動態(tài)超顯微硬度計和激光粒度分析儀分別對鍍層的硬度和鍍液中的粒子粒度進行了分析。結果表明，Ni-P-SiC鍍層的硬度優(yōu)于Ni-P鍍層，鍍層中SiC粒子的粒徑集