二次離子質(zhì)譜分析碳化硅中釩雜質(zhì)含量的研究.pdf_第1頁
已閱讀1頁，還剩56頁未讀， 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明：本文檔由用戶提供并上傳，收益歸屬內(nèi)容提供方，若內(nèi)容存在侵權(quán)，請進行舉報或認領(lǐng)

文檔簡介

1、本論文采用二次離子質(zhì)譜(SIMS)法定量分析離子注入碳化硅樣品以及升華法生長的摻雜碳化硅樣品中金屬釩雜質(zhì)含量。用相對靈敏度因子的方法，分析痕量雜質(zhì)釩在碳化硅表面的濃度隨深度變化的情況。在SIMS完成成份深度分析過程中，對一次束流強、轟擊時間、二次離子收集面積、二次離子種類、二次離子能量范圍和質(zhì)量分辨率等實驗參數(shù)進行研究，建立了實驗分析方法。以離子注入的樣品為標樣，用二次離子質(zhì)譜分析了注入的金屬釩原子在碳化硅中深度分布，并與TRIM模擬對

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明，都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等，如果需要附件，請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙，網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預覽，若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間，僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理，對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯，并不能對任何下載內(nèi)容負責。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當內(nèi)容，請與我們聯(lián)系，我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論