TC4鈦合金微弧氧化工藝及膜層性能研究.pdf

1、微弧氧化技術(shù)是一項(xiàng)具有較大潛力和廣闊應(yīng)用前景的表面改性新技術(shù)，在航空、航天領(lǐng)域有重要的應(yīng)用背景和價(jià)值。 本文選用鋁酸鈉-磷酸鈉溶液體系，在對(duì)溶液體系、電參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化實(shí)驗(yàn)研究的同時(shí)，分析工藝參數(shù)對(duì)氧化膜的形成和性能的影響。在此基礎(chǔ)上，采用渦流測(cè)厚儀、表面輪廓儀、XRD、SEM測(cè)量分析氧化膜的厚度、粗糙度、表面形貌和相成分；利用電化學(xué)工作站和球-盤磨損試驗(yàn)機(jī)研究了氧化膜的電化學(xué)腐蝕性能和摩擦學(xué)性能，并成功地在TC4鈦合金表面制備出具

2、有一定厚度、表面質(zhì)量較好的氧化膜。 實(shí)驗(yàn)研究表明：(1)溶液中的Al、P元素參與了氧化膜的形成，氧化膜主要以Al2TiO5相為主，但沒(méi)有檢測(cè)出含有P元素的晶體相；(2)氧化時(shí)間、電流密度、頻率、占空比等工藝參數(shù)都對(duì)氧化膜的形成和表面形貌有影響。隨著氧化時(shí)間的延長(zhǎng)，電流密度增大，氧化膜的厚度增加，同時(shí)氧化膜表面放電微孔數(shù)目減少而尺寸變大，粗糙度增加而表面質(zhì)量變差；(3)頻率增大，將會(huì)減少單個(gè)脈沖放電時(shí)間，氧化膜的厚度變薄，但是氧化