TC4鈦合金微弧氧化工藝及膜層性能研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、微弧氧化技術是一項具有較大潛力和廣闊應用前景的表面改性新技術,在航空、航天領域有重要的應用背景和價值。 本文選用鋁酸鈉-磷酸鈉溶液體系,在對溶液體系、電參數進行優(yōu)化實驗研究的同時,分析工藝參數對氧化膜的形成和性能的影響。在此基礎上,采用渦流測厚儀、表面輪廓儀、XRD、SEM測量分析氧化膜的厚度、粗糙度、表面形貌和相成分;利用電化學工作站和球-盤磨損試驗機研究了氧化膜的電化學腐蝕性能和摩擦學性能,并成功地在TC4鈦合金表面制備出具

2、有一定厚度、表面質量較好的氧化膜。 實驗研究表明:(1)溶液中的Al、P元素參與了氧化膜的形成,氧化膜主要以Al2TiO5相為主,但沒有檢測出含有P元素的晶體相;(2)氧化時間、電流密度、頻率、占空比等工藝參數都對氧化膜的形成和表面形貌有影響。隨著氧化時間的延長,電流密度增大,氧化膜的厚度增加,同時氧化膜表面放電微孔數目減少而尺寸變大,粗糙度增加而表面質量變差;(3)頻率增大,將會減少單個脈沖放電時間,氧化膜的厚度變薄,但是氧化

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