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文檔簡介
1、發(fā)光粉CeO2:Eu3和SrCeO3:Eu3的合成及其發(fā)光性能研究I摘要通過高溫固相反應(yīng)法制備了摻Eu3基質(zhì)為CeO2的發(fā)光粉系列樣品并對其做了X射線衍射譜(XRD)和光致發(fā)光譜(PL)檢測。XRD結(jié)果表明在Eu3摻雜濃度為0.2―10at.%的范圍內(nèi),Eu3完全進入了CeO2的晶格,形成固溶體Ce1xEuxO2;PL譜表明Eu3的發(fā)射峰強度依賴于Eu3的摻雜濃度,在Eu3的含量為1at.%時最強,隨后出現(xiàn)濃度猝滅。用solgel法制備
2、了不同溫度燒結(jié)的SrCeO3摻Eu31at.%樣品。XRD結(jié)果表明,850oC燒結(jié)時已出現(xiàn)SrCeO3。1000oC和1100oC燒結(jié)樣品中仍有CeO2,且出現(xiàn)了Sr2CeO4,1100oC燒結(jié)的樣品中雜相CeO2和Sr2CeO4較少。1250oC燒結(jié)的樣品中已無Sr2CeO4,仍有CeO2。由于SrCO3:CeO2摩爾比為1:1,推斷SrCO3在高溫燒結(jié)過程中有揮發(fā)。用高溫固相反應(yīng)法制備了摻雜不同濃度Eu3離子的SrCeO3樣品。XR
3、D表明,在高摻雜下,析出CeO2,說明Eu3離子在晶格中替代的是Ce4離子的格位,為驗證此結(jié)論,又減少CeO2含量(與摻雜的Eu3離子同樣摩爾量),焙燒了新樣品,確定了Eu3離子在晶格中大部分替代Ce4離子的位置,少部分替代Sr2離子的位置。光譜分析顯示,~239nm和~258nm激發(fā)帶起源于基質(zhì)的紫外吸收,~273nm、~298nm激發(fā)帶為Eu3O2的電荷遷移帶,~285nm和~310nm激發(fā)帶屬于Ce4O2的電荷遷移帶。5D0-7F
4、1躍遷和5D0-7F2躍遷從0.5at.%到15at.%逐漸增強,在Eu3含量為15at.%時最強,沒有出現(xiàn)濃度猝滅;422nm的發(fā)射帶在290nm激發(fā)下Eu3濃度5at.%時最強,但在236nm激發(fā)下Eu3濃度15at.%時最強;10at.%樣品的不同激發(fā)對應(yīng)不同的最強發(fā)射,~236nm激發(fā)帶有利于~422nm發(fā)射,~241nm激發(fā)帶有利于370nm-470nm發(fā)射,~258nm和~290nm激發(fā)帶有利于Eu3的特征發(fā)射。關(guān)鍵詞關(guān)鍵詞
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