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1、采用射頻磁控濺射法和脈沖激光沉積技術(shù)(PLD)，在雙面拋光的石英基片上制備了SrBi2Ta2O9鐵電薄膜和摻雜有金屬納米團簇的復合薄膜，并對薄膜的線性光學與非線性光學性質(zhì)、結(jié)晶性以及薄膜表面形貌等進行了比較詳盡的研究分析。論文工作的內(nèi)容和結(jié)論如下： (1)利用射頻磁控濺射技術(shù)在石英基片上制備了SrBi2Ta2O9鐵電薄膜。XRD結(jié)果表明薄膜樣品為(115)擇優(yōu)取向，具有很好的結(jié)晶性；利用原子力顯微鏡(AFM)對薄膜表面進行了表征
2、，發(fā)現(xiàn)樣品晶粒排列比較致密，表面平整度比較好；通過紫外-可見光光譜分析了薄膜的線性光學性能，計算出其折射率n=3.05，厚度為349nm；利用Z掃描技術(shù)對薄膜非線性光學性能進行了測量，從而計算出其三階非線性光學極化率的實部和虛部分別為Rex(3)=8.29×10-9esu和Imx(3)=1.08×10-9esu。利用PLD技術(shù)在石英基片上制備了晶體結(jié)構(gòu)不同的SrBi2Ta2O9薄膜，并研究了其光學性能。 (2)利用射頻磁控濺射技
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