Ni納米線陣列膜的制備與性能研究.pdf

1、多孔陽極氧化鋁膜具有微孔分布均勻，孔徑大小基本相同，孔密度較高，柱狀孔之間相互平行，并可以通過改變氧化條件靈活控制膜厚和孔徑，因此利用陽極氧化鋁膜制備納米材料已成為國內(nèi)外研究的熱點(diǎn)。 本文首先利用正交試驗(yàn)法研究了影響氧化鋁膜性能的因素：氧化時(shí)間、氧化電壓和擴(kuò)孔時(shí)間，分別討論了各影響因素對(duì)膜性能的單獨(dú)作用，進(jìn)而得出多孔膜的最佳制備工藝；利用交流電沉積的方法在多孔陽極氧化鋁膜孔中沉積Ni金屬微粒，獲得具有特殊性能的Ni納米線陣列膜，

2、為以后的膜性能測(cè)試做好準(zhǔn)備；通過掃描電子顯微鏡、透射電子顯微鏡、EDX能譜、X射線衍射儀、電子探針等表征方法對(duì)陽極氧化鋁膜和Ni納米線陣列膜的結(jié)構(gòu)和組分進(jìn)行分析；將Ni納米線陣列膜浸在不同腐蝕液中，計(jì)算一定時(shí)間后的失重率，進(jìn)而發(fā)現(xiàn)其在酸、堿、鹽腐蝕液中的耐蝕性；采用紫外、可見、近紅外分光光度計(jì)分別測(cè)定了Ni納米線陣列膜的光選擇吸收特性和光的各向異性。 試驗(yàn)結(jié)果表明：在膜的制備過程中擴(kuò)孔時(shí)間是影響膜性能的主要因素，氧化時(shí)間、氧化電