2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁
已閱讀1頁,還剩53頁未讀, 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡介

1、Si基發(fā)光材料與ZnO基發(fā)光材料近幾年來一直是國際研究的熱點(diǎn)。它們在全色現(xiàn)實(shí)與光通訊方面具有重要的應(yīng)用前景。 在本論文的研究中對硅基發(fā)光材料及ZnO基發(fā)光材料進(jìn)行了一些探索。對Si基發(fā)光材料的探索具體包括:Ti鈍化多孔硅與非晶SiAl合金薄膜的制備;對ZnO基發(fā)光材料的探索中,分別利用熱處理ZnAlO薄膜與ZnAl薄膜制備出ZnO納米顆粒。 采用磁控濺射的方法成功鈍化了多孔硅。利用磁控濺射向多孔硅表面沉積Ti金屬,在濺射

2、的過程中通過小功率濺射、增大工作氣壓、縮短濺射時間等方法避免Ti在多孔硅表面形成團(tuán)簇。濺射出的Ti可以在多孔硅表面形成Si-Ti鍵。通過紫外光的輻照又進(jìn)一步促進(jìn)了多孔硅表面Si-Ti鍵的形成。由于Si-Ti的存在使得多孔硅發(fā)光穩(wěn)定性顯著提高,發(fā)光峰位較未鈍化的多孔硅發(fā)生轉(zhuǎn)移。 經(jīng)過一系列的探索制備出非晶SiAl合金薄膜,為合金氧化制備Si量子點(diǎn)材料奠定了工作基礎(chǔ)。濺射時,作為陽極的襯底會受到電子的轟擊,導(dǎo)致襯底溫度升高;同時,濺

3、射出的原子有一定的動能,這就使得結(jié)晶溫度較低的SiAl合金薄膜在濺射出來以后以晶體的形式出現(xiàn)。本實(shí)驗(yàn)中通過降低濺射功率、增大工作氣壓、提高靶距、加反向電壓等方法成功地降低了襯底溫度;通過提高樣品中的Si含量提高了樣品的結(jié)晶溫度,最終制備出非晶SiAl合金薄膜。 在本論文的實(shí)驗(yàn)工作中通過合金氧化這一新方法獲得了Al<,2>O<,3>基體中的ZnO納米顆粒。先通過磁控濺射的方法制備出ZnAlO與ZnAl薄膜,經(jīng)過對ZnAlO薄膜與Z

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論