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文檔簡介
1、本文采用基于密度泛函理論的第一性原理贗勢平面波方法,對塊體、硅基外延生長和應(yīng)力作用下的BaSi2以及Ba1-xMxSi2(x=0.125)(M= Sr、Ga、In)的電子結(jié)構(gòu)及其光電子特性進行了詳細的計算。
計算了塊體 BaSi2的電子結(jié)構(gòu)和光學性質(zhì)。計算結(jié)果表明:BaSi2為間接帶隙半導(dǎo)體,帶隙值為1.086eV;其能態(tài)密度主要由 Si的3s,3p及Ba的6s、5d態(tài)電子構(gòu)成;復(fù)介電函數(shù)的計算表明BaSi2具有各向異性的性質(zhì)
2、,吸收系數(shù)最大峰值為2.67×105cm-1,折射率03.35n為。
計算了異質(zhì)外延關(guān)系為BaSi2(100)//Si(111),取向關(guān)系為BaSi2<001>//Si<110>的外延穩(wěn)定狀態(tài)下BaSi2的電子結(jié)構(gòu)和光學性質(zhì)。計算結(jié)果表明:當晶格常數(shù)
0.874nm≤a≤0.878nm時,BaSi2的能帶結(jié)構(gòu)始終是間接帶隙,晶格常數(shù)為0.876nm時,BaSi2處于穩(wěn)定狀態(tài),其對應(yīng)的帶隙值為0.9099eV,小于塊體
3、帶隙值,價帶的態(tài)密度主要由Ba的6s、5p態(tài)電子構(gòu)成;導(dǎo)帶的態(tài)密度主要由Ba的5d、5p態(tài)和Si的3p態(tài)電子構(gòu)成,靜態(tài)介電常數(shù)為12.270,折射率為3.503。
計算了應(yīng)力作用下的正交相BaSi2的電子結(jié)構(gòu)和光學性質(zhì)。計算結(jié)果表明:等方向的壓力造成了晶格常數(shù)的線性變化。當晶格常數(shù)從107%、100%、93%依次變化時,其對應(yīng)的帶隙值為逐漸線性減小,受帶隙變化的影響,表征光學性質(zhì)的介電函數(shù)、復(fù)折射率、吸收系數(shù)等響應(yīng)向高能量范圍
4、漂移。
計算了Ba1-xMxSi2(x=0.125)(M= Sr、Ga、In)的幾何結(jié)構(gòu)、能帶結(jié)構(gòu)和光學性質(zhì)。結(jié)果表明雜質(zhì)原子對 Ba原子的取代造成晶格畸變,替代不同雜質(zhì)時原子的置換位置具有擇位性,Sr、Ga、In替代時原子的置換位置為BaI位的Ba原子。Sr替代 Ba原子后,BaSi2的帶隙類型沒有發(fā)生變化;Ga、In替代 Ba原子后費米面向?qū)疲珺aSi2導(dǎo)電類型變?yōu)閚型。不同原子替代后的Ba1-xMxSi2靜態(tài)介電常
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