強(qiáng)激光和等離子體對(duì)光學(xué)元件的表面潔凈處理研究.pdf

1、本文首先回顧了光學(xué)材料損傷的一般機(jī)理，指出了光學(xué)基片的表面狀況對(duì)光學(xué)材料的激光損傷情況有重要的影響。然后對(duì)脈沖激光的清洗機(jī)理以及等離子體清洗的一般性機(jī)理進(jìn)行了闡述。從兩個(gè)方面進(jìn)行了研究，第一個(gè)方面，對(duì)短脈沖激光的清洗效果進(jìn)行了研究。用351nm短脈沖激光對(duì)熔石英、K9玻璃上的真空硅脂進(jìn)行了清洗研究，發(fā)現(xiàn)在用351nm短脈沖激光清洗時(shí)，K9玻璃在前表面清洗時(shí)的效果要好于后表面，而對(duì)于熔石英卻相反，后表面的清洗效果要好于前表面。并對(duì)該現(xiàn)象進(jìn)

2、行了解釋?zhuān)焊鶕?jù)光壓理論，熔石英、K9玻璃的后表面的壓力都大于前表面，所以在后表面都存在清洗效果，但是光熱透射技術(shù)表明，在351nm波長(zhǎng)激光作用下，由于K9玻璃的熱吸收要遠(yuǎn)大于熔石英，K9玻璃的熱膨脹效果要遠(yuǎn)大于熔石英的熱膨脹效果，所以在迎光面的清洗效果較好。本文的另外一個(gè)重要研究方面就是用CO2連續(xù)激光和等離子體結(jié)合，對(duì)熔石英上的真空硅脂進(jìn)行了清洗研究。通過(guò)光學(xué)顯微鏡、接觸角、透過(guò)率和損傷閾值測(cè)量表征了激光和等離子體對(duì)真空硅脂污染過(guò)的石