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文檔簡介
1、為了探討外源硫化氫(H2S)對黃瓜耐冷性的調(diào)控機理,以‘津優(yōu)3號’黃瓜為試材,采用葉面噴施硫氫化鈉(NaHS,H2S供體)和NaHS浸種兩種方法進行處理,以去離子水處理為對照(CK),研究內(nèi)源H2S對低溫脅迫的響應,以及H2S對低溫下黃瓜葉片光合作用、抗氧化系統(tǒng)及產(chǎn)量的影響。
本研究主要內(nèi)容包括:⑴低溫下黃瓜幼苗葉片內(nèi)源H2S與L-/D-半胱氨酸脫巰基酶(CDes)活性先升高,4 h后降低,葉面噴施1.0 mmol·L-1Na
2、HS或用1.0 mmol·L-1 NaHS浸種,黃瓜幼苗葉片的H2S含量和CDes活性顯著升高;而H2S合成抑制劑羧甲基羥胺半鹽酸鹽(AOA)或清除劑次?;撬幔℉T)處理的H2S含量和CDes活性與CK差異不顯著,說明低溫可誘導CDes催化合成H2S,外源NaHS可增強CDes活性,促進H2S合成。⑵低溫下黃瓜幼苗葉片的電解質(zhì)滲漏率(EL)和冷害指數(shù)明顯增大,NaHS可使黃瓜幼苗的EL和冷害指數(shù)的增加幅度明顯減小,而AOA和HT處理的與
3、CK差異不顯著,說明H2S可以緩解低溫脅迫對膜的傷害,提高黃瓜幼苗耐冷性。⑶低溫下黃瓜幼苗葉片的光合速率(Pn)、氣孔導度(Gs)、蒸騰速率(Tr)、核酮糖-1,5-二磷酸羧化酶(RuBPCase)、果糖-1,6-二磷酸酯酶(FBPase)、轉(zhuǎn)酮醇酶(TK)活性,以及暗下光系統(tǒng)Ⅱ最大光化學效率(Fv/ Fm)、光下實際光化學效率(ΦPSII)、電子傳遞效率(ETR)和光化學猝滅(qP)逐漸降低,胞間CO2濃度(Ci)、初始熒光(Fo)和
4、非光化學猝滅(NPQ)趨于升高。與CK相比,NaHS處理黃瓜幼苗葉片的Pn、Gs、Tr和RuBPCase、FBPase、TK活性,以及Fv/ Fm、ΦPSII、ETR和qP均顯著升高,Ci、Fo和NPQ明顯降低;而葉面噴施AOA和HT處理的與CK差異不顯著??梢?,H2S會減輕低溫對黃瓜幼苗光合機構(gòu)的破壞,維持較高的碳同化能力。⑷低溫脅迫可使黃瓜幼苗葉片的MDA含量增加,超氧化物歧化酶(SOD)、過氧化氫酶(CAT)、抗壞血酸過氧化物酶(
5、APX)和谷胱甘肽還原酶(GR)活性以及還原型谷胱甘肽(GSH)和抗壞血酸(AsA)含量先升高,后降低,過氧化物酶(POD)趨于升高。葉面噴施NaHS或NaHS浸種處理的MDA含量顯著低于CK,而SOD、POD、CAT、APX和GR活性及GSH和AsA含量明顯高于CK;葉面噴施AOA和HT的處理MDA含量、抗氧化酶活性及GSH和AsA含量多與CK差異不顯著。⑸在冬季日光溫室生產(chǎn)中,葉面噴施1.0mmol·L-1NaHS可減輕寒流對黃瓜生
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