利用電化學(xué)噪聲與交流阻抗測試方法研究防腐涂層的性能.pdf

1、電化學(xué)阻抗譜(EIS)與電化學(xué)噪聲(EN)是方便、有效的監(jiān)測有機(jī)涂層腐蝕破壞的測試技術(shù)。EIS數(shù)據(jù)能夠反映出涂層破壞機(jī)制的變化，而電化學(xué)噪聲數(shù)據(jù)處理簡單，小波分析能分析出涂層的腐蝕破壞過程。本論文實(shí)驗(yàn)是在一個(gè)改進(jìn)的電解池中對(duì)同一涂層試樣同時(shí)進(jìn)行電化學(xué)阻抗譜和電化學(xué)噪聲的監(jiān)測，它的優(yōu)點(diǎn)是使兩種測試方法所得的電化學(xué)參數(shù)對(duì)比較以往實(shí)驗(yàn)更具有可比性。 通過利用EIS和EN兩種測試方法分別對(duì)厚為13±3μm聚氨酯涂層和厚為24±5μm環(huán)氧

2、/聚酰胺涂層的腐蝕過程進(jìn)行研究，得出電化學(xué)阻抗譜參數(shù)中腐蝕反應(yīng)電阻Rt和電化學(xué)噪聲參數(shù)噪聲電阻Rn的值近似相等，且它們的變化趨勢(shì)大致相同。譜噪聲電阻R0sn(f→0)與噪聲電阻Rn在涂層腐蝕破壞過程中的變化趨勢(shì)基本一致，R0sn(f→0)小于Rn的值。阻抗模值｜Z｜f—0.01與噪聲電阻Rn的值接近。 通過利用EIS和EN兩種測試方法對(duì)厚為80±5μm環(huán)氧/聚酰胺涂層的腐蝕過程進(jìn)行研究，得出譜噪聲電阻R0sn(f→0)與噪聲電阻

3、Rn的值接近。Rn的值和Rpo的值接近。阻抗模值｜Z｜f=0.01和噪聲電阻Rn的值相差較大。 通過利用EIS和EN兩種測試方法對(duì)厚為160±5μm環(huán)氧/聚酰胺涂層的腐蝕過程進(jìn)行研究，得出電化學(xué)阻抗譜參數(shù)涂層孔隙電阻Rpo與電化學(xué)噪聲參數(shù)噪聲電阻Rn的值近似相等，且它們的變化趨勢(shì)大致相同。譜噪聲電阻R0sn(f→0)與噪聲電阻Rn在涂層腐蝕破壞過程中的變化趨勢(shì)基本一致，R0sn(f→0)和Rn值接近。阻抗模值｜Z｜f=0.01和