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文檔簡介
1、隨著抗生素的大規(guī)模生產(chǎn)和應(yīng)用,水環(huán)境中抗生素的污染問題已成為當(dāng)前研究的熱點(diǎn)。四環(huán)素類抗生素大量應(yīng)用于醫(yī)療和禽畜養(yǎng)殖,是目前使用最廣的抗生素之一。由于抗生素的生物難降解性,常規(guī)的水處理技術(shù)很難將其完全去除,光催化氧化技術(shù)作為一種新興的水處理技術(shù)在抗生素降解方面有良好的應(yīng)用前景。
本論文選取土霉素作為研究對象,本研究采用模擬太陽光作為光催化降解的光源,以納米級二氧化鈦作為催化劑,研究了不同條件下土霉素光催化降解反應(yīng)的影響因素,并運(yùn)
2、用液相色譜-質(zhì)譜對土霉素原溶液和降解后的樣品溶液進(jìn)行了分析,結(jié)果表明:pH對光催化反應(yīng)影響很大,隨著溶液 pH的增大,光催化反應(yīng)中土霉素的去除率顯著提高。催化劑投加量對光催化反應(yīng)的影響比較大,隨著二氧化鈦投加量的增加,土霉素的去除率不斷提高。土霉素的光催化降解反應(yīng)符合一級反應(yīng)動力學(xué),隨著土霉素初始質(zhì)量濃度的增加,光催化反應(yīng)速率常數(shù)減小。腐殖酸(Humic acid, HA)和Ca2+對土霉素光催化反應(yīng)的影響類似,在實驗研究的濃度范圍內(nèi),
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