電子類化工廢水中銦錫的回收利用.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、氧化銦錫(ITO)的主要應用領域是生產液晶顯示器,而其主要成分金屬銦在地殼上含量稀少,屬于稀散金屬。隨著電子行業(yè)的發(fā)展、含銦原生資源的過渡開采以及銦的需求量進一步增加,很多國家將其列為戰(zhàn)略資源,因此,開發(fā)銦的二次資源顯得尤為重要。
  ITO刻蝕廢液產生于液晶顯示器的生產過程中。這種廢液的特點為含酸高且含高回收價值的金屬離子,若是采用的是直排方式,既會使環(huán)境受到污染,又會使寶貴的資源被浪費。鑒于銦的需求量擴大,回收ITO刻蝕廢液中

2、的銦顯得十分必要。本文以ITO刻蝕廢液為研究對象,研究刻蝕廢液中銦錫的回收利用技術。
  首先,通過沉淀法對ITO刻蝕廢液進行處理,介紹了沉淀法的優(yōu)缺點,并敘述了實驗現象。實驗結果表明,通過沉淀法處理ITO刻蝕廢液,其回收率較高,其中銦離子的回收率為99.9%,錫離子的回收效率為96.6%。
  其次,通過萃取法對ITO刻蝕廢液進行處理,介紹了萃取法的優(yōu)缺點,選擇了三種常見的應用于銦錫萃取的萃取劑,即,P204,P507和T

3、BP,并通過定性的角度確定了適合用于ITO刻蝕廢液的萃取劑為P204,并做了P204的反萃實驗。實驗結果表明,通過對P204進行單因素實驗及正交實驗得出萃取法在處理ITO刻蝕廢液的最佳工藝為萃取劑/稀釋劑為3/7;攪拌時間為5分鐘;油水比(A/O)為7/1,溫度為30℃。最佳工藝條件下,銦離子的萃取率為99.14%,錫離子的萃取率為76.68%。但是由于反萃效率不高,經估算,該方法銦的總回收率在85%左右,錫的回收率僅為15%左右。

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