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1、改良西門子法生產(chǎn)多晶硅工藝流程改良西門子法生產(chǎn)多晶硅工藝流程來(lái)源來(lái)源:日晶科技日晶科技作者作者:顧斌顧斌時(shí)間時(shí)間:20100729:201007291.氫氣制備與凈化工序在電解槽內(nèi)經(jīng)電解脫鹽水制得氫氣。電解制得的氫氣經(jīng)過(guò)冷卻、分離液體后,進(jìn)入除氧器,在催化劑的作用下,氫氣中的微量氧氣與氫氣反應(yīng)生成水而被除去。除氧后的氫氣通過(guò)一組吸附干燥器而被干燥。凈化干燥后的氫氣送入氫氣貯罐,然后送往氯化氫合成、三氯氫硅氫還原、四氯化硅氫化工序。電解制
2、得的氧氣經(jīng)冷卻、分離液體后,送入氧氣貯罐。出氧氣貯罐的氧氣送去裝瓶。氣液分離器排放廢吸附劑,氫氣脫氧器有廢脫氧催化劑排放,干燥器有廢吸附劑排放,均由供貨商回收再利用。2.氯化氫合成工序從氫氣制備與凈化工序來(lái)的氫氣和從合成氣干法分離工序返回的循環(huán)氫氣分別進(jìn)入本工序氫氣緩沖罐并在罐內(nèi)混合。出氫氣緩沖罐的氫氣引入氯化氫合成爐底部的燃燒槍。從液氯汽化工序來(lái)的氯氣經(jīng)氯氣緩沖罐,也引入氯化氫合成爐的底部的燃燒槍。氫氣與氯氣的混合氣體在燃燒槍出口被點(diǎn)
3、燃,經(jīng)燃燒反應(yīng)生成氯化氫氣體。出合成爐的氯化氫氣體流經(jīng)空氣冷卻器、水冷卻器、深冷卻器、霧沫分離器后,被送往三氯氫硅合成工序。為保證安全,本裝置設(shè)置有一套主要由兩臺(tái)氯化氫降膜吸收器出合成爐頂部挾帶有硅粉的合成氣,經(jīng)三級(jí)旋風(fēng)除塵器組成的干法除塵系統(tǒng)除去部分硅粉后,送入濕法除塵系統(tǒng),被四氯化硅液體洗滌,氣體中的部分細(xì)小硅塵被洗下;洗滌同時(shí),通入濕氫氣與氣體接觸,氣體所含部分金屬氧化物發(fā)生水解而被除去。除去了硅粉而被凈化的混合氣體送往合成氣干法
4、分離工序。4.合成氣干法分離工序從三氯氫硅氫合成工序來(lái)的合成氣在此工序被分離成氯硅烷液體、氫氣和氯化氫氣體,分別循環(huán)回裝置使用。三氯氫硅合成氣流經(jīng)混合氣緩沖罐,然后進(jìn)入噴淋洗滌塔,被塔頂流下的低溫氯硅烷液體洗滌。氣體中的大部份氯硅烷被冷凝并混入洗滌液中。出塔底的氯硅烷用泵增壓,大部分經(jīng)冷凍降溫后循環(huán)回塔頂用于氣體的洗滌,多余部份的氯硅烷送入氯化氫解析塔。出噴淋洗滌塔塔頂除去了大部分氯硅烷的氣體,用混合氣壓縮機(jī)壓縮并經(jīng)冷凍降溫后,送入氯化
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