實現(xiàn)led支架鍍銀生產(chǎn)線優(yōu)質(zhì)低耗(11)——再論電流密度的適用

1、1實現(xiàn)LED支架鍍銀生產(chǎn)線優(yōu)質(zhì)低耗（11）再論電流密度的適用再論電流密度的適用本集是（3）集的補充和深入。電流密度的適用，是取得良好鍍層的重要外加條件。要做到適用，除了要了解適用的重要性之外，還應(yīng)熟知影響電流密度的各種因素，并且做到聯(lián)系各種因素，綜合分析，才能較準(zhǔn)確選定，達(dá)到適用。一、影響電流密度的因素一、影響電流密度的因素直接影響電流密度的因素有：電鍍金屬的本性；鍍液類型；鍍液組分及其濃度，包括主鹽、附加鹽、添加劑、絡(luò)合物等成份的含量

2、；鍍液溫度；PH值；攪拌力度等。其中電鍍金屬的本性和鍍液組分是根本性因素，它決定了該金屬能否電鍍，用怎樣的工藝（包括電流密度范圍）才能取得良好的鍍層。鍍液的類型就是由金屬的本性決定的。有的金屬離子（如金屬鎳）在單鹽鍍液中就能取得良好鍍層，有的金屬（如銀）則需在絡(luò)合物鍍液中才能取得良好鍍層。由于在生產(chǎn)線上，各鍍種，和鍍液類型都已有明確規(guī)定，而且各電鍍種類，添加劑供應(yīng)商都詳細(xì)提供了工藝配方和工藝條件，所以工藝操作人員只要聯(lián)系本企業(yè)的實際情況

3、，靈活執(zhí)行，一般情況下，就能取得良好電鍍產(chǎn)品。工藝配方與各工藝條件都有一定的范圍。我們在具體選取上，要做到相互對應(yīng)相互聯(lián)系，相互協(xié)調(diào)。不可以把濃度選取在上限，而把電流密度選取在下限，反之也不可以把濃度選取在下限，而把電流密度選取在上限。筆者在以前各集，對直接影響電流密度的因素已經(jīng)有過論述，現(xiàn)在再集中在一起簡述之。1、在其它條件不變下，在一定范圍內(nèi)，電流密度可以而且應(yīng)當(dāng)隨鍍液濃度的增加而加大，反之亦反之。3另外，寬度不夠，造成鍍液溶積，與

4、陰極面積之比過小，電鍍時，電流密度就不可以較大地操作。例如：酸銅電鍍時，每升鍍液的通電量就不能長時間大于0.5A秒，否則就會影響鍍液的電化學(xué)性能。2、可溶性陽極與陰極的面積比：陰極電化學(xué)反應(yīng)，實際上也受制于陽極過程。若陽極鈍化，則電鍍就不能正常進(jìn)行。若陽極面積過小，在恒電流作業(yè)條件下，則槽電壓逐漸升高，溶液濃度逐漸降低，均鍍能力下降，電流密度范圍下限上升，上限下降，產(chǎn)品質(zhì)量難以穩(wěn)定。在恒電壓作業(yè)條件下，陽極面積過小，陰極實際電流密度下降

5、，也極易造成電鍍故障。一般說來，能保持溶液鍍層金屬離子含量恒定，其時可溶性陽極面積就是適當(dāng)?shù)摹Ｔ诒３秩芤簼舛群愣ǖ那疤嵯?，為了保持適中的槽電壓，可以聯(lián)合使用不溶性陽極。3、陰極的幾何形狀，對電流密度的選擇影響極大。在千方百計改善鍍液電化學(xué)性能的前提下，只有通過長期實踐，才能較適中地選定合適的電流密度，從而確保陰極凸處和陰極凹處的電流密度都在合理的范圍之內(nèi)。另外，陰極表面粗糙度大，其實際面積會比表觀面積大很多。在電流密度的選擇上一定要充分

6、予以重視。當(dāng)然，對于幾何形狀過分復(fù)雜，表面過于粗糙的鍍件，即使最優(yōu)良的鍍液，也無法取得連續(xù)、均勻、平滑的鍍層。一般說來，幾何形狀復(fù)雜的零件，參照供應(yīng)商提供的電流密度范圍，電流密度不能取近上限作業(yè)，據(jù)筆者的經(jīng)驗，取中等或中上為佳。二、極限電流密度與臨界電流密度二、極限電流密度與臨界電流密度使陰極高電流區(qū)，界面金屬離子趨向于零，剛剛出現(xiàn)燒焦鍍層時的電流密度，叫做極限電流密度。使陰極低電流區(qū)，一般是深凹處，開始出現(xiàn)電沉積，產(chǎn)生鍍層的電流密度，