電去離子(edi)凈水技術(shù)應(yīng)用

1、電去離子（去離子（EDI）凈水技水技術(shù)的應(yīng)用電去離子（EDI）凈水技術(shù)是一種將離子交換與電滲析膜技術(shù)有機(jī)結(jié)合起來，只用電來除去水中離子的除鹽凈水方法。這種技術(shù)的應(yīng)用最早在1955年，當(dāng)時(shí)用于放射性廢水處理，直到1990年美國(guó)IONPURE公司推出改進(jìn)后的產(chǎn)品，才開始廣泛應(yīng)用于工業(yè)水處理領(lǐng)域。目前，此種技術(shù)已在電子、發(fā)電、醫(yī)藥、化工等行業(yè)的純水制備。在美國(guó)和歐洲已有近千套設(shè)備投入正常運(yùn)行，中國(guó)也引進(jìn)了近五十套，并在各個(gè)行業(yè)領(lǐng)域中投入使用。

2、、、EDI工作原理典型的EDI膜堆是由夾在兩個(gè)電極之間的一定對(duì)數(shù)的單元組成（見附圖），每個(gè)單元內(nèi)有兩類不同的室：待除鹽的淡水室（D室）和收集所除去的雜質(zhì)離子的淡水室（C室）。D室中用混合均勻的陽、陰離子交換樹脂填滿，這些樹指位于兩個(gè)膜之間：只允許陽離子通過的陽離子交換膜；只允許陰離子通過的陰離子交換膜。.樹脂床利用加在室兩端的直流電場(chǎng)進(jìn)行連續(xù)地再生，電壓使水中的水分子分解成H及OH，水中這些離子受相應(yīng)電極的吸引，穿過交換膜進(jìn)入濃室后，H

3、及OH結(jié)合成水。這種H及OH的產(chǎn)生及遷移正是樹脂得以實(shí)現(xiàn)連續(xù)再生的機(jī)理。當(dāng)進(jìn)水中的鈉離子及氯離子等雜質(zhì)離子吸附到相應(yīng)的離子交換樹脂上時(shí)，這些雜質(zhì)離子就會(huì)象普通混床一樣進(jìn)行離子交換，并相應(yīng)的置換出H及OH。一旦在離子交換劑內(nèi)的雜質(zhì)離子也加入到H及OH向交換膜方向的遷移，這些離子將連續(xù)地穿過樹脂和離子交換膜進(jìn)入濃水室。這些雜質(zhì)離子由于相鄰隔室交換膜的阻擋作用而不能向?qū)?yīng)電極進(jìn)一步遷移。這樣，雜質(zhì)離子可以集中在濃水室排出膜堆。在典型的EDI系

4、統(tǒng)中，進(jìn)水的90%~95%直接通過D室，5%~10%的進(jìn)水被分配進(jìn)C室。濃水用泵打循環(huán)并使其在膜堆中達(dá)到較高的流速，這樣可以提高除鹽效率、促進(jìn)水流的混合、降低可能的結(jié)垢等作用。三、EDI的技術(shù)特點(diǎn)目前，我公司引進(jìn)的是美國(guó)GE公司的ECellMK2TM膜塊，單個(gè)膜塊的制水量為3.4m3hr。這種裝置可以被設(shè)計(jì)成框架組裝式（類似與于反滲透裝置），幾個(gè)膜堆在框架上并聯(lián)組裝最大可達(dá)450m3h的容量。EDI凈水裝置通四、ECellTM系統(tǒng)裝置主

5、要配置設(shè)備1ECellTM膜塊目前常用的ECellTM膜塊有三種，用戶可以根據(jù)需要選擇。MK2模塊產(chǎn)水量1.7~3.4m3h，用于電子、電力等行業(yè)。MK2mini模塊產(chǎn)水量0.57~1.14m3h，用于小型系統(tǒng)。MK2Pharm模塊產(chǎn)水量1.6~4.09m3h，用于醫(yī)藥領(lǐng)域。2整流器對(duì)于MK2模塊，整流器需要向模塊提供DC600VC的直流電，要求每個(gè)模塊的最大電流為4.5A；所有模塊采用并聯(lián)連接，整流器應(yīng)能提供的最大電流為N4.5A。3

6、濃水循環(huán)泵該泵要求能耐鹽腐蝕，流量為N1.23m3h，揚(yáng)程40~50米。4控制柜（連同PLC）5儀表a）4個(gè)流量表（帶低流量報(bào)警）：產(chǎn)水、濃水循環(huán)、濃水排放、極水排放；b）5個(gè)壓力表：淡水進(jìn)出口壓力、濃水進(jìn)出壓力和循環(huán)泵出口壓力；C）產(chǎn)水電導(dǎo)率和濃水電導(dǎo)率表6、相應(yīng)的管道閥門五、進(jìn)水質(zhì)量對(duì)EDI系統(tǒng)設(shè)計(jì)的影響ECellTMMK2模塊的進(jìn)水必須是反滲透產(chǎn)水或水質(zhì)相當(dāng)于反滲透產(chǎn)水的水源。EDI系統(tǒng)要嚴(yán)格控制進(jìn)水硬度，以防止模塊結(jié)垢。進(jìn)水硬度