版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認領(lǐng)
文檔簡介
1、一氧化氮(NO)可有效抑制血小板的激活與聚集,抑制平滑肌的增生,改善血液接觸材料(如血管支架)的血液相容性及抗增生能力。Cu離子能夠催化NO供體S-亞硝基-N-乙酰青霉胺(SNAP)和血管內(nèi)皮細胞中的一氧化氮合酶釋放NO。另外,Ti具有生物惰性和良好的生物相容性,被廣泛應(yīng)用于生物材料領(lǐng)域?;诖?,本論文利用磁控濺射的方法制備Ti-Cu薄膜,以期其能夠釋放出不同量的Cu離子以實現(xiàn)其催化NO釋放的目的,提高血液接觸材料的生物相容性。
2、 采用高功率脈沖磁控濺射(HPPMS)和直流磁控濺射(DCMS)雙靶共濺射的方法,制備了Cu含量為1.6~69.8 at.%的Ti-Cu薄膜,對薄膜成分與結(jié)構(gòu)、抗腐蝕能力和Cu離子釋放行為進行了研究。采用X射線衍射儀(XRD)、高分辨透射電鏡(HRTEM)和能譜儀(EDS)分析了薄膜的微觀結(jié)構(gòu)和化學成分。XRD和HRTEM的結(jié)果表明:Cu含量低于16.3at.%時,薄膜為Ti晶體相;Cu含量在16.3~38.4 at.%時,薄膜同時出
3、現(xiàn)了Ti晶體相、Cu晶體相和非晶結(jié)構(gòu);Cu含量高于50.8at.%時,薄膜為典型的非晶結(jié)構(gòu),同時含有少量的納米晶。采用電化學工作站測試了Ti-Cu薄膜在PBS中的極化曲線。結(jié)果表明,當Ti-Cu薄膜的Cu含量在3.1~38.4at.%時,其抗腐蝕能力較強,明顯強于基體材料SS;當Cu含量大于54.9 at.%(非晶結(jié)構(gòu))時,抗腐蝕性能顯著下降。薄膜在PBS溶液中能夠長期有效地釋放Cu離子。當Cu含量大于54.9 at.%時,Cu離子釋放
4、顯著增加,說明薄膜的腐蝕性能顯著地影響了薄膜的Cu離子釋放行為。Ti-Cu薄膜能夠催化SNAP釋放NO,Cu含量低于38.4at.%的薄膜催化SNAP釋放NO的量較低且無顯著的差別,Cu含量大于54.9at.%時,釋放NO的量隨著Cu含量增加而顯著增加。血小板實驗結(jié)果表明,加入供體后Cu含量大于16.3 at.%的Ti-Cu薄膜可以有效地抑制血小板的粘附與激活。通過對金黃色葡萄球菌的培養(yǎng),發(fā)現(xiàn)Cu含量為3.1和16.3 at.%的薄膜不
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 高功率脈沖磁控濺射技術(shù)制備Ti-Cu薄膜及血小板粘附行為.pdf
- 不銹鋼表面納米多孔Ti-Cu薄膜的制備及性能研究.pdf
- 磁控共濺射制備無氫碳化鍺薄膜的結(jié)構(gòu)和性能研究.pdf
- 磁控濺射制備Cu-Zr合金薄膜及其性能研究.pdf
- 摻Ti-Cu、Ti-Ni碳合金的制備及結(jié)構(gòu)表征的研究.pdf
- 磁控濺射Ti-TiN多層薄膜制備及其性能研究.pdf
- Cu-ZN-Sn硫族化物薄膜吸收層的共濺射制備工藝及性能研究.pdf
- 磁控濺射Ti-Ag-(N)薄膜制備及其性能研究.pdf
- 共濺射法制備MgxZn1-xO薄膜及光電性能研究.pdf
- Cu(Ti)和Cu(Cr)合金薄膜的制備及性能研究.pdf
- 直流磁控濺射制備(Ti,Al)N薄膜相結(jié)構(gòu)與劃痕性能研究.pdf
- 磁控濺射法制備TI-Si0-N薄膜及其性能研究.pdf
- 反應(yīng)共濺射Ti-Si-N納米復合膜的結(jié)構(gòu)與性能.pdf
- 磁控濺射制備(Ti,Al)N基超硬質(zhì)薄膜及其性能的研究.pdf
- 非晶態(tài)Ti-Cu合金納米多孔結(jié)構(gòu)研究.pdf
- 磁控濺射制備鉬、鎢薄膜及其結(jié)構(gòu)性能研究.pdf
- Ti-Cu、Ti-Ni金屬界面反應(yīng)研究.pdf
- 雙靶直流反應(yīng)磁控共濺射沉積TiAlN薄膜及其性能研究.pdf
- 機械球磨法制備Ti-Cr及Ti-Cu阻燃合金層的研究.pdf
- 基于共濺射Cu-In預(yù)制層制備CuInSe2和CuIn(S,Se)2薄膜.pdf
評論
0/150
提交評論