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文檔簡介
1、近年來,半導(dǎo)體納米材料由于其對光具有獨特的光響應(yīng)反應(yīng)可以達到一定效果,使其在光催化領(lǐng)域有著廣泛應(yīng)用。硫化鉍是一種層狀結(jié)構(gòu)的納米材料,材料的禁帶寬度為1.7eV,硫化鉍納米材料能良好的抑制光生電子空穴對的復(fù)合,從而增強納米粒子的氧化和還原能力,因此其具有優(yōu)異的光電和催化性能,在電化學(xué)和光催化材料等方面有著廣泛的應(yīng)用前景。納米半導(dǎo)體材料的催化性質(zhì)和性能與其顆粒的粒徑、形貌有關(guān)系,本文通過三種方法制備出不同形貌的硫化鉍納米材料和復(fù)合納米材料,
2、嘗試對硫化鉍的形貌進行可控合成,并且經(jīng)過復(fù)合改性對其進行修飾,使其光催化性能得以顯著提高。
本文以五水合硝酸鉍為鉍源,硫化鈉為硫源、尿素為礦化劑,采用簡單的水熱法成功制備出形貌單一的硫化鉍納米棒。采用熱解-沉積和連續(xù)離子吸附法制成兩種形貌、構(gòu)型不同的復(fù)合型硫化鉍納米薄膜,并詳細地研究并對比了各種因素和反應(yīng)條件對硫化鉍納米棒和納米薄膜形成的影響,其光催化機理及性能進行了研究。研究得出:實驗所制備的Bi2S3納米棒形貌單一且純相,
3、禁帶寬度為1.7eV。反應(yīng)時間12h,反應(yīng)溫度120 ℃,ph控制在10-11,過氧化氫作為電子捕獲劑時,其光催化降解羅丹明B的效果最好;所制備的Bi2O3/Bi2S3薄膜呈現(xiàn)多孔結(jié)構(gòu)。當(dāng)熱解溫度550 ℃,后處理溫度為200 ℃、溶劑為甲醇時,催化劑在140min的降解率較高,可以達到85%以上;以簡單的、低溫的SILAR法合成 Bi2S3/ZnO薄膜,當(dāng)操作周期為20個周期,陰陽離子前驅(qū)液的浸入時間分別為60s和30s時,催化劑在1
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