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1、中文摘要 本論文分別對(duì)物理電子學(xué)中的若干問題進(jìn)行了數(shù)值模擬研究，對(duì)傳統(tǒng)的高能離軸電子全息和新型的低能同軸電子全息高分辨率數(shù)值重現(xiàn)進(jìn)行了計(jì)算機(jī)模擬研究，提出了Ehrlich-Schwoebel勢(shì)壘修正的動(dòng)態(tài)連續(xù)運(yùn)動(dòng)方程，模擬了不同參數(shù)(溫度、入射離子能量)下的濺射結(jié)果；在大束流密度的情況下，由于濺射出的Si原予與入射粒子碰撞幾率增大而重新沉積回濺射表面，本文在運(yùn)動(dòng)方程中又引入了抑制項(xiàng)，同樣給出了在相同入射離子劑量下的實(shí)驗(yàn)和模擬結(jié)果。通
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