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文檔簡介
1、中文摘要 本論文分別對物理電子學中的若干問題進行了數值模擬研究,對傳統的高能離軸電子全息和新型的低能同軸電子全息高分辨率數值重現進行了計算機模擬研究,提出了Ehrlich-Schwoebel勢壘修正的動態(tài)連續(xù)運動方程,模擬了不同參數(溫度、入射離子能量)下的濺射結果;在大束流密度的情況下,由于濺射出的Si原予與入射粒子碰撞幾率增大而重新沉積回濺射表面,本文在運動方程中又引入了抑制項,同樣給出了在相同入射離子劑量下的實驗和模擬結果。通
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