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文檔簡介
1、隨著電子器件向小型化和輕便化方向發(fā)展,基于柔性襯底的透明導(dǎo)電薄膜將成為硬質(zhì)襯底透明導(dǎo)電薄膜的更新?lián)Q代產(chǎn)品,因此引起人們?cè)絹碓蕉嗟年P(guān)注。ZnO,一種具有高激子束縛能(60meV)的寬直接帶隙半導(dǎo)體,由于其透明導(dǎo)電性,無毒,廉價(jià),原材料豐富等優(yōu)點(diǎn),被認(rèn)為是具有廣闊應(yīng)用前景的透明導(dǎo)電材料。本論文在系統(tǒng)總結(jié)國內(nèi)外柔性透明導(dǎo)電薄膜的基礎(chǔ)上,利用磁控濺射和原子層沉積(ALD)方法,在柔性塑料襯底上制備了具有疊層結(jié)構(gòu)和納米陣列結(jié)構(gòu)的ZnO透明導(dǎo)電薄膜
2、。并對(duì)透明導(dǎo)電薄膜的電學(xué)性能,光學(xué)性能及微觀形貌進(jìn)行了研究。主要內(nèi)容包括:
1.銦(In)層的厚度對(duì)ZnO／In／ZnO疊層透明導(dǎo)電薄膜的電學(xué)性能和光學(xué)性能的影響；
2.銅(Cu)層厚度對(duì)鋁摻雜氧化鋅(AZO)／Cu／AZO疊層透明導(dǎo)電薄膜的電學(xué)性能和光學(xué)性能的影響及疊層薄膜的彎曲性能；
3.在表面具有蛾眼結(jié)構(gòu)的柔性塑料襯底上,制備具有陣列結(jié)構(gòu)的AZO透明導(dǎo)電薄膜,研究濺射和ALD方法對(duì)薄膜表面
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