高功率532nm相干光的二次諧波產(chǎn)生.pdf

1、本論文報(bào)告了高功率穩(wěn)定的532nm相干光源研制的實(shí)驗(yàn)成果，所研制的相干光源是供壓縮態(tài)光場(chǎng)產(chǎn)生實(shí)驗(yàn)所用，其光功率要求為300mW左右，功率穩(wěn)定時(shí)間在小時(shí)量級(jí)。
　　壓縮態(tài)光場(chǎng)是一種非經(jīng)典光場(chǎng)，它在高精度光學(xué)測(cè)量、亞散粒噪聲光學(xué)測(cè)量、量子通信等領(lǐng)域有著廣泛應(yīng)用前景。
　　作者基于光學(xué)二次諧波產(chǎn)生，利用光學(xué)諧振腔能提高光學(xué)二次諧波轉(zhuǎn)換效率為中心設(shè)計(jì)了一套二倍頻系統(tǒng)方案，制作了實(shí)際系統(tǒng)中所需的光、機(jī)、電等關(guān)鍵技術(shù)單元模塊。全文圍繞光

2、學(xué)諧振腔的實(shí)驗(yàn)方案展開論述，簡(jiǎn)述了非線性光學(xué)中的二次諧波產(chǎn)生、光學(xué)諧振腔的作用、高斯光束的基本特征參數(shù)與自再現(xiàn)變換的推導(dǎo)過程，并以上述幾點(diǎn)為根據(jù)設(shè)計(jì)出光學(xué)諧振腔的機(jī)械機(jī)構(gòu)、計(jì)算出腔鏡理論上最佳的參數(shù)、光學(xué)諧振腔模式匹配關(guān)鍵光學(xué)元件的參數(shù)。實(shí)驗(yàn)上重點(diǎn)分析了二次諧波效率的制約因素（包括基頻光的方向與偏振態(tài)的穩(wěn)定性、光路中電子學(xué)部分工作時(shí)間、晶體控溫效果等），并以此為依據(jù)修改實(shí)驗(yàn)方案。最終該套二倍頻系統(tǒng)在引力中心的山洞實(shí)驗(yàn)室內(nèi)經(jīng)HC鎖定技術(shù)實(shí)