氧化釩薄膜微結構表征與調控.pdf

1、過渡金屬釩與氧結合可以形成多種價態(tài)的氧化物，在光學和電學方面展現(xiàn)出獨特和優(yōu)異的性質，是目前國內外的研究熱點。氧化釩薄膜在光電開關、光學存儲介質和紅外探測器方面有較高的應用價值和良好的發(fā)展前景。
　　本課題實驗采用了直流反應磁控濺射的方法，以K9實驗玻璃為襯底制備了金屬釩薄膜、氧化釩薄膜、摻Y氧化釩薄膜、摻Ti氧化釩薄膜和W/Ti共摻雜氧化釩薄膜。本文探索了反應磁控濺射方法制備金屬薄膜、非摻雜和摻雜氧化釩薄膜的工藝條件，重點對制備的

2、薄膜進行了相關的測試與表征分析，如：電阻溫度關系、掃描電子顯微鏡、交流阻抗譜、X射線衍射譜、X射線光電子能譜等。
　　通過實驗研究，本文得出了氧化釩薄膜的最佳制備工藝，即氧氬比為100:4，濺射電流為0.32A，基片溫度為100℃。這樣的工藝條件下制備的氧化釩薄膜在60~70℃范圍內出現(xiàn)相變特性，具有2~3個相變數(shù)量級。實驗制備不同基片溫度的氧化釩薄膜，通過交流阻抗譜分析研究表明，隨著基片溫度升高，薄膜的晶粒尺寸變大，晶粒阻值貢獻

3、度增大。實驗制備了金屬釩薄膜，對其進行高溫退火處理，大氣環(huán)境下450℃高溫退火1.5h，獲得了較高電阻溫度系數(shù)(TCR)的氧化釩薄膜，并對薄膜進行了X射線衍射譜表征分析。
　　研究表明，實驗制備的二氧化釩薄膜在68℃左右發(fā)生相變，相變前后薄膜的電學和光學性能都反生劇烈變化。當最佳工藝條件不變時，在氧化釩薄膜制備過程中摻雜Y、Ti等元素，薄膜的結構和電學性能發(fā)生明顯變化。摻入Y元素，由XPS分析得出隨Y元素的摻入薄膜中O元素和V元素