基于擴(kuò)展Mie理論的平面上方微粒的光散射計(jì)算研究.pdf

1、半導(dǎo)體平面上的缺陷檢測(cè)問題是近年來半導(dǎo)體集成生產(chǎn)管理(Integrated Yield Management,IYM)領(lǐng)域的一個(gè)難點(diǎn).用光散射方法進(jìn)行缺陷檢測(cè)是國外制造業(yè)普遍采用的一種高效、快速、無損的檢測(cè)手段.其中缺陷散射場(chǎng)分布特性計(jì)算方法研究是目前國內(nèi)外學(xué)者研究的重點(diǎn)問題,即利用數(shù)學(xué)建模和計(jì)算仿真分析手段,構(gòu)造日益精密復(fù)雜化的模型來預(yù)報(bào)光散射信號(hào).理解與計(jì)算缺陷散射場(chǎng)的分布特性、得到探測(cè)系統(tǒng)所需要的基礎(chǔ)數(shù)據(jù)可以指導(dǎo)工程師設(shè)計(jì)出靈敏有

2、效的診斷工具.作者通過對(duì)國內(nèi)外大量有關(guān)文獻(xiàn)的查閱分析,討論了基于擴(kuò)展的Mie理論方法求解平面上方小球的散射問題.建立了均勻介質(zhì)小球和分層小球與平面的光散射模型,解決小球和平面的邊界條件問題,并利用矢量波函數(shù)展開的方法求解散射系數(shù)并最終求得了散射場(chǎng).散射總場(chǎng)是小球本身的散射場(chǎng),平面反射光形成的散射場(chǎng),和小球與平面之間的相互作用場(chǎng)的疊加.本文給出了均勻介質(zhì)小球和分層小球的微分散射截面圖并進(jìn)行了詳細(xì)討論.通過對(duì)該模型的數(shù)學(xué)分析和計(jì)算機(jī)編程求解