NiO薄膜的制備及其光學特性的研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、NiO是一種用途廣泛的半導體材料，通常以綠色粉末狀存在，它的分子量為74.70，具有立方晶體結(jié)構(gòu)。在功能材料中，NiO薄膜具備了許多優(yōu)異的性能，在熱敏元件、氣敏元件、光探測器等電子元件方面具有良好的應用前景。
　　NiO薄膜的制備工藝有很多種，主要有脈沖激光沉積技術(shù)，溶膠凝膠法，化學氣相沉積技術(shù)，噴霧熱解法，分子束外延技術(shù)等等，各種制備工藝各具特點。這些制備技術(shù)及其制備時的工藝參數(shù)都會對NiO薄膜的厚度、表面形貌、結(jié)晶趨向以及光學

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