電化學(xué)法制備FePt薄膜.pdf

1、本文利用脈沖電沉積法，以FeSO4·7H2O和H2PtCl6·6H2O作為Fe2+源和Pt4+源，無(wú)水Na2SO4為導(dǎo)電鹽，溶劑為二次去離子水，分別制備出了FePt共沉積薄膜和Fe/Pt多層膜。利用x射線衍射儀(XRD)、掃描電子顯微鏡(SEM)、能譜(EDX)和振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì)(VSM)對(duì)熱處理前后的FePt共沉積薄膜和Fe/Pt多層膜微觀形貌和磁性能進(jìn)行了表征。主要研究?jī)?nèi)容如下：
　　 ⑴以純Cu片為基體，在沉積電位在-1V到

2、-6V之間變化的情況下，制備出了FePt共沉積薄膜。電位變的越負(fù)，共沉積薄膜中Fe的含量增加，同時(shí)Pt的含量相對(duì)減少，在-4.7V時(shí)制備出了Fe/Pt原子比接近于1:1的共沉積薄膜，而且，從薄膜的表面形貌可知，薄膜的表面顆粒大小與沉積電位有關(guān)。-4.7V時(shí)的共沉積薄膜表面顆粒較為均勻致密，薄膜表面平整，但薄膜中的O含量也達(dá)到最大值，而富Fe的薄膜與富Pt的薄膜中的O含量都很少。將沉積電位-4.7V的FePt共沉積薄膜在550℃氫氣氣氛中

3、熱處理30分鐘后，VSM測(cè)試結(jié)果表明，矯頑力從2.19kA/m增加到了12.5kA/m，飽和磁化強(qiáng)度由408.6kA/m增大到465.3kA/m。
　　 ⑵由制備FePt共沉積薄膜的結(jié)果可知，富Fe層沉積電位選擇-4V，-5V，-6V，富Pt層沉積電位選擇-2V，-3V，-4V，然后使富Fe層和富Pt層交替沉積制備出Fe/Pt多層膜。本文研究了沉積電位，沉積時(shí)間，沉積基體等Fe/Pt多層膜制備中的影響因素。結(jié)果表明：在固定富Pt

4、層沉積電位，只變換富Fe層沉積電位或固定富Fe層沉積電位，只變換富Pt層沉積電位時(shí)，由于電流密度的不同，薄膜的表面形貌都有較明顯的差別。組分上顯示出一定的規(guī)律性，對(duì)組分較理想的Fe/Pt多層膜在550℃純氫氣氣氛中熱處理30min，發(fā)現(xiàn)薄膜中的O被還原，主要成分Fe和Pt的含量都有不同程度的增加，表面顆粒長(zhǎng)大，矯頑力與飽和磁化強(qiáng)度都大幅提高。
　　 ⑶固定沉積電位，SEM斷層顯示Fe/Pt多層膜(t.2V=12min，t-6V=