氧化鈦及其復合薄膜的制備和光學性能研究.pdf

1、氧化鈦具有優(yōu)異的性能和廣泛的應用，怎樣改善和調(diào)制氧化鈦的性能，擴大其應用范圍，是研究的熱點領域。本文的目的在于采用磁控濺射技術(shù)制備氧化鈦及其復合薄膜，研究復合薄膜光學性能的可調(diào)制性，以滿足人們對新型功能薄膜不斷增長的應用需求。采用直流反應濺射方法制備了銳鈦礦相的氧化鈦薄膜，發(fā)現(xiàn)氧化鈦薄膜由棍狀晶粒組成，顆粒尺寸隨氧分壓的增加而增大，首次通過Metripol雙折射成像技術(shù)分析了氧化鈦光學異向性和晶粒聚合狀況，橢圓偏振儀分析發(fā)現(xiàn)薄膜的折射率

2、隨氧分壓的增大而減小。隨著鋅含量的增加，氧化鈦/氧化鋅復合薄膜由非晶態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)閱蜗噔佀徜\，然后形成鈦酸鋅和氧化鋅混合相，薄膜的折射率和光學帶隙隨著鋅含量的增加而減小，而消光系數(shù)增大。首次在室溫襯底條件下獲得六方菱形鈦酸鋅薄膜，發(fā)現(xiàn)襯底溫度升高導致顆粒尺寸增大，出現(xiàn)晶粒聚合的現(xiàn)象，折射率隨著襯底溫度的升高而降低，而消光系數(shù)增大。首次在800℃退火處理的立方相鈦酸鋅薄膜中觀察到一個源于氧缺陷和鋅離子空位的熒光峰。氧化鎂/氧化鈦非晶復合薄膜的折