2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁
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文檔簡介

1、幾十年來器件尺寸遵循著等比例縮小定律持續(xù)減小,隨著MOSFET器件特征尺寸進入亞100nm至納米級,器件的很多技術(shù)指標已經(jīng)接近其物理極限。隨著器件溝道長度的不斷減小,源漏極耗盡區(qū)占整個溝道的比重越來越大,溝道區(qū)的二維電勢分布和強電場使器件性能嚴重偏離長溝道器件性能,溝道內(nèi)的導電電荷越來越少,使得閾值電壓減小,進而失去控制,這就是短溝道效應(yīng)。當溝道長度減小,漏極所加電壓增加時,由于溝道很短,源極也受到漏極電場的影響,在此電場的影響下,源端

2、勢壘降低,從源區(qū)注入到溝道內(nèi)的自由電子增加,進而導致漏源電流增加,稱為漏感應(yīng)勢壘降低效應(yīng),對于一定的源漏電壓,器件尺寸越小,漏極電流增加的越顯著,最終導致器件不能關(guān)斷,以致器件無法正常工作。當溝道長度減小到一定的程度,器件內(nèi)的電場強度很強,特別是源漏結(jié)附近,從而使載流子獲得很高的能量,隨即成為熱載流子,熱載流子在兩個方面影響器件性能:首先熱載流子穿過Si-SiO2勢壘,注入到氧化層中,隨著電子的不斷積累,閾值電壓改變,器件壽命縮短;其次

3、熱載流子在漏極附近的耗盡區(qū)中與晶格碰撞產(chǎn)生電子空穴對,對NMOS管,碰撞產(chǎn)生的電子形成附加的泄漏電流,空穴則被襯底收集,形成襯底電流。根據(jù)等比例縮小定律,柵氧化層厚度隨著MOSFET尺寸縮小而越來越薄,主流的半導體制程甚至已經(jīng)做出了1.2納米厚度的柵氧化層,該厚度僅僅與5個原子疊加在一起的厚度相當。在這種尺寸下,有些電子有機會越過柵氧化層而產(chǎn)生柵極泄漏電流,這就是電子的隧穿效應(yīng)。以上問題的解決需要從器件的工藝、材料和結(jié)構(gòu)等方面加以考慮。

4、本文主要工作包括:
  (1) MOSFET器件研究概述與器件建模理論基礎(chǔ)。第1章介紹了集成電路發(fā)展概況、面臨的問題以及未來發(fā)展的趨勢。并基于此,提出了本文的研究意義與研究內(nèi)容。第2章介紹了器件解析模型建模理論基礎(chǔ),總結(jié)歸納了三種表面勢建模方法。
  (2)異質(zhì)柵MOSFET的柵極由兩種不同功函數(shù)的材料組成,因而在溝道內(nèi)產(chǎn)生了階梯電勢,在兩種材料的交接處附近增加了一個峰值電場,同時漏端峰值電場比同質(zhì)柵MOSFET有所降低,交

5、接處的峰值電場提高了溝道內(nèi)載流子的輸運效率,同時降低了器件的熱載流子效應(yīng)。此外,由于該器件近源極區(qū)域?qū)β╇妷旱淖兓哂衅帘巫饔?,從而有效地抑制了器件的溝道長度調(diào)制效應(yīng)。受異質(zhì)柵結(jié)構(gòu)的啟發(fā),本文第3章提出了單材料雙功函數(shù)柵MOSFET,近源端采用P型摻雜,近漏端采用N型摻雜,因為P型摻雜功函數(shù)高于N型摻雜功函數(shù)。運用拋物線法為該器件建立了電勢解析模型,并用MEDICI對該模型進行了驗證,結(jié)果表明解析模型與MEDICI仿真曲線吻合較好。最后

6、對器件的各種性能進行了仿真分析。
  (3)輕摻雜漏MOSFET是在溝道中靠近源漏極附近設(shè)置一個低摻雜區(qū)域,該區(qū)域可以承受部分電壓,削弱漏區(qū)電場,防止熱電子退化效應(yīng)。在第3章基礎(chǔ)上,本文第4章提出了單材料雙功函數(shù)柵輕摻雜漏MOSFET。首先通過工藝模擬軟件TSUPREM,模擬了SMDWG LDD MOSFET柵極制造工藝。其次運用拋物線法,建立了該器件的表面勢解析模型,并用MEDICI進行了仿真驗證,結(jié)果表明解析模型與MEDICI

7、仿真較吻合。最后對器件的各種性能進行了仿真分析。
  (4)根據(jù)2013年國際半導體技術(shù)發(fā)展路線圖,到2017年主流工藝器件的物理柵長將降至15納米以下,對應(yīng)的等效氧化層厚度將降到0.6納米以下,如仍然采用二氧化硅作為柵介質(zhì),電子的遂穿效應(yīng)將非常嚴重,采用高k介質(zhì)材料取代傳統(tǒng)的二氧化硅,已經(jīng)成為克服該問題的有效方法之一,但是因為高k介質(zhì)和硅基之間往往存在界面層,影響器件的穩(wěn)定性,基于此,本文第5章提出了堆疊柵介質(zhì)異質(zhì)柵全耗盡SOI

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