面厚度對絢彩AT氧化鋯全鋯冠抗壓縮破壞力的影響.pdf

1、目的：
　　本實驗旨在研究計算機輔助設(shè)計與計算機輔助制作（CAD/CAM）技術(shù)條件下，對比絢彩AT（anterior tooth）氧化鋯全鋯冠（簡稱AT全鋯冠）與臨床常用SHT（super high translucency）氧化鋯全鋯冠（簡稱SHT全鋯冠）及SHT氧化鋯飾瓷冠的抗壓縮破壞力，不同面厚度絢彩AT氧化鋯全鋯冠的抗壓縮破壞力，分析瓷材料和面厚度對全瓷冠斷裂強度的影響，并尋找能夠滿足日常最大咬合力的AT全鋯冠最小厚度

2、，從而為臨床使用絢彩AT氧化鋯時的牙體預(yù)備以及加工廠的修復(fù)體制作提供參考依據(jù)。
　　方法：
　　1金屬代型的制作
　　通過標準左側(cè)下頜第一磨牙進行牙體預(yù)備，參考《口腔修復(fù)學》第七版教材中的全瓷冠基牙預(yù)備原則進行基牙設(shè)計。預(yù)備標準為：面功能尖磨除1.5mm，非功能尖磨除1.0mm，軸面聚合度為8°，肩臺寬度為0.8mm的淺凹型肩臺。將設(shè)計好的底座以及預(yù)備體利用加成硅橡膠印模材制備印模，選擇專用的鑄造蠟以1:1的比例加工

3、底座及預(yù)備體蠟型，常規(guī)包埋、鑄造、打磨、噴砂完成30個金屬代型的制作。
　　2.1全鋯冠及基底冠的模型設(shè)計
　　用3Shape光學印模掃描儀掃描出預(yù)備體的3D模型，隨即將數(shù)據(jù)導(dǎo)入到Dental Designer軟件，系統(tǒng)會自動生成左側(cè)下頜第一磨牙的標準解剖形態(tài)的修復(fù)體。根據(jù)實驗需要利用虛擬調(diào)改刀修整至面厚度分別為1.0mm、1.5mm、2.0mm，肩臺寬度為0.8mm，與金屬代型的肩臺平滑相接,完成全鋯冠的模型數(shù)據(jù)。然后用

4、同樣的方法生成面厚度為0.5mm的氧化鋯基底冠的模型數(shù)據(jù)。
　　2.2全鋯冠的制作
　　將Dental Designer軟件設(shè)計完成的不同面厚度的全鋯冠的數(shù)據(jù)傳遞給CAM雕刻機，按照廠家的產(chǎn)品指導(dǎo)手冊按照特定放大比例完成面厚度為1.0mm、1.5mm、2.0mm的AT全鋯冠以及SHT全鋯冠的切割，各6個，經(jīng)完全燒結(jié)后上釉完成。分別設(shè)為A組、B組、C組、D組。
　　2.3氧化鋯飾瓷冠的制作
　　將Dental

5、 Designer軟件設(shè)計完成的氧化鋯基底冠的模型數(shù)據(jù)傳遞給CAM雕刻機進行氧化鋯基底冠的切割，燒結(jié)完成后堆塑飾面瓷，最終燒結(jié)，得到面厚度為2.0mm的SHT氧化鋯飾瓷冠6個。
　　3試件的粘固將制作完成的全鋯冠及氧化鋯飾瓷冠用3M玻璃離子分別粘固于相應(yīng)金屬代型上，指壓就位，以20N的力持續(xù)加壓5min，去除多余的粘固劑，將30個全瓷冠浸泡于蒸餾水中并置于37℃的恒溫箱中24h后取出。
　　4抗壓縮破壞力測試
　　將

6、粘固好的全瓷冠按順序依次置于萬能試驗機上進行壓縮實驗測試，加載頭以0.5mm/min的恒定速度加載于全瓷冠的功能尖上，直至全瓷冠破壞為止，記錄數(shù)值。
　　5統(tǒng)計學分析
　　使用SPSS21.0軟件對數(shù)據(jù)進行統(tǒng)計學分析。Kolmogorov-Smirnov和Shapiro-Wilk檢驗數(shù)據(jù)是否符合正態(tài)性分布（α=0.1）。Levenes test對數(shù)據(jù)進行方差齊性檢驗（α=0.1）。本次實驗數(shù)據(jù)均滿足正態(tài)性及方差齊性檢驗（P>

7、0.1），實驗數(shù)據(jù)可以用均數(shù)±標準差表示（X±S）。用單因素方差分析比較不同面厚度AT全鋯冠的抗壓縮破壞力以及AT全鋯冠與SHT全鋯冠、氧化鋯飾瓷冠的抗壓縮破壞力有無組間差別，若組間有差別再分別用Student-Newmen-Keuls進行組間的兩兩比較。P<0.05認為有統(tǒng)計學意義。
　　結(jié)果：
　　1各組全冠的抗壓縮破壞力
　　A組；（1202.02±51.81）N，B組：（2244.59±51.19）N，C組：

8、（4723.61±126.21）N，D組：（2383.96±96.40）N，E組：（2148.14±103.7） N。
　　2統(tǒng)計學分析
　　2.1對AT全鋯冠、SHT全鋯冠、SHT氧化鋯飾瓷冠組的抗壓縮破壞力結(jié)果進行統(tǒng)計學分析。各組數(shù)據(jù)均符合正態(tài)性及方差齊性且不同面厚度抗壓縮破壞力總體均數(shù)不等。面厚度為1.5mm的AT全鋯冠同面厚度為1.0mm的SHT全鋯冠以及SHT氧化鋯飾瓷冠組無統(tǒng)計學差異（P>0.05）；面厚

9、度為1.0mm的絢彩AT全鋯冠抗壓縮破壞力低于面厚度為1.0mm的SHT全鋯冠，且有統(tǒng)計學差異（P<0.05）；面厚度為2.0mm的AT全鋯冠的抗壓縮破壞力高于面厚度為2.0mm的SHT氧化鋯飾瓷冠，且有統(tǒng)計學差異（P<0.05）。
　　2.2對不同面厚度的AT全鋯冠的抗壓縮破壞力結(jié)果進行統(tǒng)計學分析。
　　各組數(shù)據(jù)均符合正態(tài)性及方差齊性且不同面厚度抗壓縮破壞力總體均數(shù)不等。隨著面厚度的增加抗壓縮破壞力增大。組間兩

10、兩比較顯示面厚度1.0mm組，1.5mm組，2.0mm組的抗壓縮破壞力均有顯著性（P<0.05）。
　　2.3斷裂模式
　　單層瓷結(jié)構(gòu)的AT全鋯冠的斷裂模式同SHT全鋯冠相同，均為瓷層整體性破壞。光學顯微鏡下觀察，加載頭下方的功能尖部位為錐形裂紋，部分裂紋與面窩溝或三角嵴重疊。面厚度越大，加載點處的半塑性損傷越明顯。SHT氧化鋯飾瓷冠組的斷裂均表現(xiàn)為飾瓷的剝脫。
　　結(jié)論：
　　1通過與面厚度為1.0mm