表面處理對(duì)氧化鋯與飾面瓷之間剪切強(qiáng)度影響的體外研究.pdf

1、目的：通過(guò)體外研究不同噴砂條件及不同表面粗化方法對(duì)氧化鋯與飾面瓷之間結(jié)合強(qiáng)度的影響，為氧化鋯的技工加工選擇合適的表面處理方法提供依據(jù)。
　　方法：⑴氧化鋯試件塊的制作:將氧化鋯陶瓷坯塊切割、致密性燒結(jié)成8mm×8mm×3mm(±0.02)186塊，隨機(jī)分為31組，每組6個(gè)試件塊。⑵實(shí)驗(yàn)分組：根據(jù)不同的噴砂粉顆粒(A1=75μm、A2=110μm、A3=150μm)、不同的噴砂壓強(qiáng)(B1=0.2MPa、B2=0.4MPa、B3=0.

2、6MPa)和不同的噴砂時(shí)間(C1=10s、C2=20s、C3=30s)進(jìn)行組合，如A1B1C1、 A1B1C2、 A1B1C3、 A1B2C1等共形成27組，分別進(jìn)行不同條件的噴砂處理；根據(jù)氧化鋯表面不同的粗化方式，分為對(duì)照組、打磨組、噴砂組、打磨+噴砂組。對(duì)照組:氧化鋯表面不做處理;打磨組:金剛砂車針濕打磨;噴砂組:氧化鋁噴砂(110μm，0.4MPa,20s);打磨+噴砂組:金剛砂車針濕打磨后氧化鋁噴砂(110μm,0.4MPa,2

3、0s)。⑶實(shí)驗(yàn)測(cè)定:從每組選出一個(gè)標(biāo)本表面噴金后電子掃描電鏡觀察表面形態(tài)，剩余標(biāo)本在氧化鋯處理面上粉漿涂塑法制作直徑為3mm，高為3mm的圓柱形飾面瓷，標(biāo)本加底座制成剪切試驗(yàn)試件（直徑為14mm高為5mm），用電子萬(wàn)能測(cè)力計(jì)測(cè)最大剪切力(N)，計(jì)算剪切強(qiáng)度(MPa)，肉眼觀察并記錄試件的破壞形式，所得數(shù)據(jù)運(yùn)用SPSS16.0統(tǒng)計(jì)軟件進(jìn)行統(tǒng)計(jì)分析。
　　結(jié)果：①對(duì)于不同噴砂條件所測(cè)得剪切試驗(yàn)值進(jìn)行三因素析因分析，結(jié)果顯示：因素“顆粒

4、”的主效應(yīng)有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P＜0.01)，可認(rèn)為三種不同顆粒的噴砂粉對(duì)SBS（Shear Bond Strength，剪切粘結(jié)強(qiáng)度）有顯著性的影響；因素“壓強(qiáng)”的主效應(yīng)有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P＜0.01)，可認(rèn)為在三種不同壓強(qiáng)下噴砂對(duì)SBS有顯著性的影響；因素“時(shí)間”的主效應(yīng)有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P＜0.01)，可認(rèn)為三種不同噴砂時(shí)間對(duì)SBS有顯著性的影響；因素“顆?！迸c因素“壓強(qiáng)”存在交互作用(P＜0.01)；因素“顆?！迸c因素“時(shí)間”存在交互作用(P

5、＜0.05)；三因素之間存在交互作用(P＜0.01)。②對(duì)于不同噴砂條件所測(cè)得剪切試驗(yàn)值進(jìn)行單因素方差分析及LSD法（least significant difference，最小顯著差異）進(jìn)行組間兩兩比較：以“顆?！睘榉治鲆蛩?，噴砂條件為B2C3、B3C1、B3C2時(shí)，A1組的SBS值最大;噴砂條件為B2C2、 B3C3時(shí)，A1A2之間SBS值無(wú)差異且都大于A3組;噴砂條件為B1C3、 B2C1時(shí)，A3組SBS值最大；以“壓強(qiáng)”為分析

6、因素，在噴砂條件為A3C3時(shí)，B1組SBS值最大;在噴砂條件為A1C2、A1C3、A2C2、 A2C3、A3C1、A3C2時(shí)BE組SBS值最大;在噴砂條件為A2C1時(shí)BE與B3組SBS值無(wú)差異且都大于B1;在噴砂條件為A1C1時(shí)，A3組SBS值最大。(3)以“時(shí)間”為分析因素，在噴砂條件為A1B3、A2B3、A3B3時(shí)，C1組SBS值最大;在噴砂條件為A1B2、 A2B2、A3B2時(shí)，C2組SBS值最大;在噴砂條件為A3B1時(shí)C3組SB

7、S值最大。③對(duì)于不同粗化處理所測(cè)得剪切試驗(yàn)值進(jìn)行單因素方差分析，4組試件塊之間的差別(P＜0.01)，噴砂組所測(cè)得剪切強(qiáng)度最大P=34.10±0.97MPa，打磨組測(cè)得的剪切強(qiáng)度最小P=24.84±0.21MPa，再采用LSD法進(jìn)行組間兩兩比較，結(jié)果顯示對(duì)照組＞打磨組(P＜0.01);噴砂組＞對(duì)照組(P＜0.01);噴砂組＞打磨+噴砂組(P＜0.01);打磨+噴砂組＞對(duì)照組(P＜0.05)。④氧化鋯與飾面瓷之間的破壞方式主要是界面破壞。