不同拋光工具對威蘭德氧化鋯拋光后表面性能的影響.pdf

1、目的:
　　本實(shí)驗(yàn)通過模擬臨床調(diào)(牙合)、拋光操作流程，從表面粗糙度、形貌特征、XRD晶相分析和維氏硬度四個(gè)方面研究不同的拋光工具對氧化鋯拋光后表面形貌和機(jī)械性能的影響，從而為臨床氧化鋯修復(fù)體的拋光提供指導(dǎo)性建議。
　　方法:
　　將威蘭德氧化鋯坯塊切割成體積為13mm×10mm×3mm大小的標(biāo)準(zhǔn)試件，分別依次用150＃、400＃、600＃、800＃、1200＃砂紙打磨試件，然后將氧化鋯坯塊進(jìn)行燒結(jié)，挑選32個(gè)試件隨機(jī)

2、分成4組（A組、B組、C組、D組），每組8個(gè)試件。A組為空白對照組，不做任何處理;B組為陰性對照組，用松風(fēng)綠色和白色砂石依次打磨及粗拋光;C組為固美組，D組為EVE組;C組、D組分別在B組的基礎(chǔ)上用不同拋光套裝依次進(jìn)行拋光。測試各組試件拋光處理后的表面粗糙度Ra值并進(jìn)行單因素方差分析，并使用掃描電鏡觀察每組試件處理后的表面形貌和XRD分析氧化鋯拋光前后晶相結(jié)構(gòu)的差異，測量每組試件的維氏硬度值并進(jìn)行單因素方差分析。
　　結(jié)果:

3、>　　粗糙度:氧化鋯試件經(jīng)表面處理后各組Ra值之間不完全相同，差別具有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(F=273.2，P=0.000)，LSD-t檢驗(yàn)結(jié)果表明:各組Ra值從低到高依次為:D組＜A組、B組、C組，差異具有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義，其中A組、B組、C組之間無統(tǒng)計(jì)學(xué)差異。且將每組的前一級拋光與后一級拋光后的Ra值進(jìn)行兩獨(dú)立樣本的配對t檢驗(yàn)表明:B組、C組、D組三組前后兩級拋光后的Ra值具有統(tǒng)計(jì)學(xué)差異。SEM結(jié)果與表面粗糙度測試結(jié)果具有較好的一致性。XRD分析拋

4、光前后氧化鋯表面存在m-t晶相的轉(zhuǎn)化。維氏硬度:四組氧化鋯在表面處理后維氏硬度值之間差別無統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(F=2.603，P=0.053＞0.05)。
　　結(jié)論:
　　不同氧化鋯拋光工具對威蘭德氧化鋯拋光效果具有顯著性差異，具有三級拋光磨頭的EVE氧化鋯拋光套裝拋光效果最好，拋光后氧化鋯表面富有光澤。固美氧化鋯拋光套裝的拋光效果與空白對照組和陰性對照組效果相當(dāng)，能滿足臨床要求。XRD檢測氧化鋯表面拋光后發(fā)生了m-t的晶相轉(zhuǎn)變，拋