噴射電沉積納米晶鎳及銅-鎳多層膜的試驗研究.pdf

1、電沉積法制備納米晶材料是一種備受關(guān)注的納米材料制備方法，而高速電沉積在提高制備速度和效率的同時也在一定程度上提高了所制備材料的性能。噴射電沉積、磨擦電沉積和脈沖電沉積都是實(shí)現(xiàn)高速電沉積的有效手段，且該三種方法各有特點(diǎn)，本文將脈沖電沉積和磨擦電沉積同時引入到噴射電沉積中，提出了研磨脈沖噴射電沉積這一新工藝。在噴射電沉積的基礎(chǔ)上輔以脈沖電源，同時利用噴射電沉積局部沉積的特點(diǎn)對非沉積區(qū)域采用硬質(zhì)粒子進(jìn)行研磨。同樣利用噴射電沉積局部沉積的特點(diǎn)提

2、出了一種多元陣列噴射電沉積制備多層膜的全新的工藝方法。
　　 本文主要研究內(nèi)容如下：
　　 (1)理論上論證將噴射電沉積、磨擦電沉積和脈沖電沉積結(jié)合的可行性，以原有噴射電沉積設(shè)備為基礎(chǔ)組建研磨脈沖噴射電沉積系統(tǒng)。
　　 (2)利用組建的試驗系統(tǒng)在各參數(shù)條件下制備納米晶Ni，采用掃描電鏡(SEM)、表面三維形貌儀、透射電鏡(TEM)、X射線衍射(XRD)以及電化學(xué)腐蝕等分析手段，對沉積層的表面形貌、微觀組織結(jié)構(gòu)和性

3、能進(jìn)行了檢測與分析。并與普通噴射電沉積制得的Ni沉積層進(jìn)行各方面的比較，發(fā)現(xiàn)該新方法對沉積層表面具有顯著的除瘤和整平作用，使沉積過程中的宏觀表面始終較為平整、光滑，并能夠細(xì)化晶粒；其顯微硬度和抗腐蝕性能顯著提高。
　　 (3)利用測試結(jié)果分析研究平均電流密度、脈沖占空比、脈沖頻率和陰極轉(zhuǎn)速等工藝參數(shù)對所制得的納米晶Ni結(jié)構(gòu)和性能的影響。
　　 (4)構(gòu)建了一套多元陣列噴射電沉積系統(tǒng)，利用該系統(tǒng)制備不同工藝參數(shù)和具有不同調(diào)