微電鑄的工藝技術(shù)研究.pdf

1、微細(xì)加工技術(shù)作為MEMS技術(shù)從設(shè)計(jì)到產(chǎn)品化的整個(gè)過(guò)程中最關(guān)鍵和基礎(chǔ)的環(huán)節(jié)，已成為當(dāng)前MEMS技術(shù)研究的熱點(diǎn)。而在眾多的微細(xì)加工技術(shù)中，微細(xì)電鑄作為應(yīng)用最廣泛非硅微器件的加工手段之一，受到越來(lái)越多的關(guān)注。 在國(guó)家高技術(shù)研究開發(fā)計(jì)劃(863)的支持下，本文基于微電鑄工藝?yán)碚?，分析了影響微?xì)電鑄過(guò)程的主要因素。自行研制了微電鑄系統(tǒng)，進(jìn)行微電鑄工藝參數(shù)的優(yōu)化，并利用其實(shí)現(xiàn)了幾種不同功能微器件的電鑄成型。現(xiàn)將主要工作歸納如下： 1

2、.基于電沉積理論，分析了微細(xì)電鑄過(guò)程中金屬離子的運(yùn)動(dòng)情況，明確了電流密度和電鑄速度以及電流效率之間的定量關(guān)系，給出了電鑄速度和電流效率的概念和計(jì)算方法； 2.根據(jù)微電鑄工藝實(shí)施的需要，自行研制了一套微電鑄實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)，制定了微細(xì)電鑄工藝優(yōu)化的實(shí)驗(yàn)方案；采用直流電鑄和脈沖電鑄兩種方式，結(jié)合其電鑄速度、電流效率以及鑄層表面形貌，得到了較優(yōu)化的電流參數(shù)； 3.對(duì)SU-8光刻膠厚膜光刻工藝展開了探索研究，分別進(jìn)行了單層膠和雙層膠光刻