基于紫外納米軟壓印工藝的陷光結(jié)構(gòu)研究.pdf

1、隨著科技的進步，很多器件在微納尺寸下展現(xiàn)出很多與大塊材料不同的性質(zhì)，而這些性質(zhì)中有很多具有很強的應(yīng)用前景，這推動了微納器件的加工方法的提高與性質(zhì)的研究。
　　本文的第一章與第二章簡單介紹了常見的納米加工方法，包括電子束光刻(EBL)、微納自組裝法及納米壓印技術(shù)。通過分析各種加工方法的優(yōu)劣，介紹了納米壓印技術(shù)的優(yōu)勢:它可以在保證加工精度較高同時又能降低其生產(chǎn)成本，而這兩個優(yōu)點為納米壓印的工業(yè)化做了很好的鋪墊。在第二章中，通過對常見的

2、三種納米壓印技術(shù)做出分析，并結(jié)合現(xiàn)有的設(shè)備，對納米壓印技術(shù)進行了相應(yīng)的改進，并詳細的介紹了納米壓印的各個加工步驟及需要注意的地方。
　　本文的第三章與第四章，是利用之前介紹的納米壓印的加工方法對超級吸收體及光學(xué)傳感器這兩種微納器件進行加工。這兩種微納器件是基于表面等離激元來進行設(shè)計的，而為了使加工器件更加有目的性，我們利用有限時域差分法對各種尺寸的微納器件進行了仿真。通過掃描電鏡以及原子力顯微鏡的觀測我們再一次驗證了納米壓印具有極