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文檔簡介
1、自從集成電路技術(shù)被提出以來,作為其核心技術(shù)的光刻圖形轉(zhuǎn)移被廣泛研究和應(yīng)用。但由于光學(xué)光刻技術(shù)的分辨率受到瑞利公式的制約且成本急劇增加,國際半導(dǎo)體藍(lán)圖提出下一代圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)的概念(NGL)。納米壓印技術(shù)是下一代圖形轉(zhuǎn)移的支撐技術(shù)。因其具有高分辨率、高保真度、高產(chǎn)量及低成本等技術(shù)特點(diǎn),獲得廣泛關(guān)注。
論文通過簡單介紹納米壓印技術(shù)近年來的發(fā)展,對比了各種傳統(tǒng)及新興納米壓印技術(shù)的優(yōu)缺點(diǎn)以及遇到的問題。在眾多壓印技術(shù)方法中氣體施壓納米壓
2、印技術(shù)能很好地解決壓印過程中施壓壓力不均勻的問題。面向氣體施壓工藝提出了壓縮式氣體施壓納米壓印技術(shù)以滿足應(yīng)用需要。但是這種壓印系統(tǒng)無可避免的會因活塞滑動而產(chǎn)生振動,從而影響壓印圖形轉(zhuǎn)移分辨率。
本文首先采用聚氨酯材料制作活塞環(huán)以保證施壓腔室的氣密性。通過赫茲接觸理論分析接觸面的宏觀波紋度和微觀粗糙度,得出振源振動參數(shù)。并進(jìn)一步根據(jù)彈性力學(xué)方程數(shù)值分析得出振動在支桿和腔壁上的傳輸形態(tài)。為了求出振動疊加后的頻率值、最大幅度值,通過
3、理論分析得出壓印系統(tǒng)振動在施壓腔室底板上傳遞的振動方程,并通過仿真驗(yàn)證了理論分析的正確性。然后為了有效減弱系統(tǒng)振動對承片臺的振動影響,選取硅膠作為減振裝置材料。根據(jù)材料力學(xué)知識,分析振動原因及隔振原理,建立了強(qiáng)柱弱梁的減振結(jié)構(gòu)模型。通過COMSOL軟件仿真分析得出各參數(shù)的最優(yōu)值,建立了2層強(qiáng)柱弱梁錯開的最優(yōu)減振結(jié)構(gòu),最大程度衰減了振動的幅值。最后基于課題組設(shè)計、研制的二代壓縮式氣壓納米壓印機(jī)(APL-002),分析了活塞運(yùn)動過程中對筒壁
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