版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡(jiǎn)介
1、非晶碳(a-C)薄膜具有低的摩擦系數(shù)、高的硬度、優(yōu)異的耐磨性能以及良好的生物相容性,在摩擦學(xué)和生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域具有很大的應(yīng)用前景。然而,膜生長(zhǎng)過程中產(chǎn)生的高內(nèi)應(yīng)力和高硬度容易導(dǎo)致薄膜的結(jié)合失效,限制其在表面保護(hù)工程方面的實(shí)際應(yīng)用。
本文把元素?fù)诫s、功能梯度結(jié)構(gòu)、多層結(jié)構(gòu)應(yīng)用于非晶碳基薄膜的設(shè)計(jì)當(dāng)中,并探索了薄膜組織結(jié)構(gòu)和機(jī)械性能的變化規(guī)律與內(nèi)在機(jī)理。
采用磁控濺射法制備出厚度約為1.5μm的含鈦非晶碳復(fù)合薄膜,并將偏壓
2、梯度(bias-graded,從-20 V逐漸變化到-150V)成功應(yīng)用于該薄膜的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中。研究發(fā)現(xiàn),偏壓梯度對(duì)含鈦非晶碳膜層中的TiC沒有太大的影響,但是偏壓梯度薄膜的內(nèi)應(yīng)力和sp3碳含量均有所降低,與常偏壓薄膜相比,偏壓梯度薄膜不僅能維持較高的硬度(約19 GPa),還具有良好的韌性與結(jié)合強(qiáng)度。在10N高載荷條件下,偏壓梯度復(fù)合薄膜在空氣中的摩擦系數(shù)和磨損率分別約為0.08和2.89×10-16 m3 N-1 m-1;而在Hank
3、s'溶液中的摩擦系數(shù)也為0.08,但磨損率低至4.63×10-17 m3 N-1 m-1,展現(xiàn)出良好的耐磨性能,Hanks,溶液提供了明顯的潤(rùn)滑效果。
通過非平衡磁控濺射設(shè)備系統(tǒng)沉積制備a-C/a-C∶Ti納米多層薄膜和a-C薄膜,對(duì)a-C/a-C∶Ti納米多層薄膜進(jìn)行初步探索。研究發(fā)現(xiàn),與a-C薄膜相比,該納米多層薄膜的硬度高達(dá)25 GPa,且具有良好的韌性。由于TiC納米晶粒和大量界面的存在,薄膜的硬度和結(jié)合強(qiáng)度得到很大改
4、善。另外,在無(wú)外界潤(rùn)滑條件下,該多層薄膜的摩擦系數(shù)和磨損率分別約為0.080和1.95×10-16m3 N-1 m-1;而在Hanks'溶液中,其摩擦系數(shù)和磨損率則分別低至0.074和4.25×10-17 m3 N-1m-1。
通過沉積不同調(diào)制周期(12-70 nm)的a-C/a-C∶Ti納米多層薄膜,對(duì)多層薄膜進(jìn)行更深入的研究。結(jié)果表明,這一系列薄膜厚度均達(dá)到3μm左右,展現(xiàn)出良好的膜基協(xié)調(diào)能力和高的承載能力,隨著調(diào)制周期的
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 非晶碳類薄膜的多層結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及其機(jī)械性能的研究.pdf
- 納米結(jié)構(gòu)碳氮基薄膜的設(shè)計(jì)與機(jī)械性能.pdf
- 磁控濺射BZT-BCT基薄膜的結(jié)構(gòu)與電性能.pdf
- 磁控濺射法制備非晶硅薄膜及其性能研究.pdf
- 多層結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)對(duì)Si摻雜DLC多層薄膜機(jī)械性能的影響.pdf
- 磁控濺射法制備非晶硅薄膜及其晶化研究.pdf
- 磁控濺射制備MoS2基復(fù)合薄膜的結(jié)構(gòu)與性能研究.pdf
- 鋯基非晶薄膜的制備及其機(jī)械性能與生物相容性研究.pdf
- 磁控濺射Cu-Fe薄膜的結(jié)構(gòu)表征與性能.pdf
- 磁控濺射沉積氫化非晶硅薄膜及其結(jié)晶過程的研究.pdf
- 磁控濺射制備SiO-,x-非晶薄膜的沉積機(jī)制及薄膜結(jié)構(gòu)的研究.pdf
- 含鈦非晶碳薄膜的制備、組織結(jié)構(gòu)與性能.pdf
- 磁控濺射非晶WO-,3-薄膜及其電致變色性能研究.pdf
- 磁控濺射Co和CoTaZr薄膜的組織結(jié)構(gòu)與性能研究.pdf
- 磁控濺射制備硅基哈氏合金薄膜結(jié)構(gòu)及性能研究.pdf
- 氧化釩基薄膜的磁控濺射制備和光學(xué)性能優(yōu)化.pdf
- 深冷處理對(duì)非晶碳薄膜-高速鋼機(jī)械性能的影響及機(jī)理研究.pdf
- 反應(yīng)磁控濺射沉積AlN薄膜取向結(jié)構(gòu)與性能研究.pdf
- 磁控濺射法制備硅基薄膜的結(jié)構(gòu)與性質(zhì)研究.pdf
- 脈沖磁控濺射沉積微晶硅薄膜的研究.pdf
評(píng)論
0/150
提交評(píng)論