化學(xué)氣相沉積法控制合成低維過(guò)渡金屬硫族化合物的研究.pdf_第1頁(yè)
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1、二維過(guò)渡金屬硫族化合物(TMDCs)作為一類(lèi)新興的低維材料,因其具有豐富的材料特性及廣闊的應(yīng)用前景受到廣泛關(guān)注。其中半導(dǎo)體性TMDCs極大地豐富了以金屬性石墨烯(graphene)以及絕緣體六方氮化硼(h-BN)為代表的二維材料體系。當(dāng)二維材料的維度進(jìn)一步降低至一維時(shí),在量子限域效應(yīng)的作用下,一維材料將呈現(xiàn)出與二維材料迥然不同的性質(zhì)。在低維材料研究領(lǐng)域,材料的控制合成是最基礎(chǔ)的科學(xué)問(wèn)題,是揭示這類(lèi)材料的獨(dú)特性質(zhì)并探索其應(yīng)用的關(guān)鍵。在合成

2、低維TMDCs的諸多方法中,化學(xué)氣相沉積法(CVD)具有可控性強(qiáng)、合成材料質(zhì)量高、易于產(chǎn)業(yè)化等眾多優(yōu)點(diǎn),已經(jīng)展示出實(shí)現(xiàn)這類(lèi)材料可控合成的巨大潛力。本論文圍繞著幾種具有獨(dú)特電學(xué)性質(zhì)的低維過(guò)渡金屬硫族化合物的控制合成展開(kāi),以前驅(qū)體的設(shè)計(jì)合成為切入點(diǎn),系統(tǒng)地研究這幾種低維TMDCs的CVD合成,并探索了這幾種材料所呈現(xiàn)的特性。論文的主要內(nèi)容包括如下三個(gè)部分:
  1.準(zhǔn)一維三氧化二釩(V2O3)納米帶的制備及其相轉(zhuǎn)變行為的研究。利用水熱

3、法制備的五氧化二釩(V2O5)納米帶作為前驅(qū)體及模板,通過(guò)氣相還原為V2O3納米帶,并研究了其相轉(zhuǎn)變行為與三維或二維V2O3材料的差異,結(jié)果表明:
  (1)透射電子顯微鏡(TEM)、選區(qū)電子衍射(SAED)、X射線(xiàn)光電子能譜(XPS)及X射線(xiàn)衍射(XRD)的數(shù)據(jù)表明,V2O5納米帶在氫氣(H2)與硫(S)的混合氣氛中被還原為V2O3納米帶,其尺寸與形貌保持完整。
  (2)通過(guò)測(cè)量單根納米帶的電導(dǎo)率隨溫度的變化,表明了所制

4、備的V2O3納米帶的金屬-絕緣體相轉(zhuǎn)變溫度約為150 K,與V2O3體相材料相近。利用拉曼光譜研究了激光誘導(dǎo)下V2O3納米帶的化學(xué)穩(wěn)定性與溫度的關(guān)系,間接測(cè)得了V2O3納米帶的相轉(zhuǎn)變溫度約為150 K,與變溫電學(xué)性質(zhì)的數(shù)據(jù)吻合。
  (3)通過(guò)超導(dǎo)量子干涉器件(SQUID)測(cè)得的V2O3納米帶的磁相變溫度低于體相材料,表明納米帶中順磁相-反鐵磁相的轉(zhuǎn)變受到抑制。這是由于尺寸的限制打破低溫下磁性的長(zhǎng)程有序性所致。
  此部分的

5、研究工作拓展了獲取一維V2O3納米材料的方法,揭示了維度對(duì)其電學(xué)與磁學(xué)相轉(zhuǎn)變行為的影響。此外,跟蹤相轉(zhuǎn)變前后化學(xué)穩(wěn)定性的變化則為研究材料的相轉(zhuǎn)變行為提供了一種新思路。
  2.化學(xué)氣相沉積法制備二維半導(dǎo)體性二硫化鎢(WS2)及其形貌的研究。針對(duì)三氧化鎢(WO3)難以氣化的問(wèn)題設(shè)計(jì)了不同組成及尺寸的前驅(qū)體,并將前驅(qū)體進(jìn)行圖案化,從而降低前驅(qū)體的氣化溫度,提高前驅(qū)體的利用率。圍繞這一思路開(kāi)展的研究工作包括以下三個(gè)方面:以V-W-O微米

6、片為前驅(qū)體制備WS2納米片;以水熱法制備的WO3納米棒為前驅(qū)體大量制備二維WS2納米片并進(jìn)行其刻蝕行為的研究;以圖案化的WO3前驅(qū)體制備大量或大尺寸的WS2納米片。主要研究成果包括:
  (1)以水熱法制備的V-W-O微米片為前驅(qū)體制備了WS2納米片。通過(guò)V的摻雜顯著降低WO3的氣化溫度。光學(xué)顯微鏡圖像表明,WS2納米片在生長(zhǎng)過(guò)程中呈現(xiàn)出不同晶向的選擇性,形成了六邊形、三角形及兩者的過(guò)渡形貌。利用能量色散X射線(xiàn)光譜(EDX),結(jié)合

7、二維拉曼成像(Raman mapping)及飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜(TOF-SIMS),表明了V元素未摻雜于WS2納米片中。
  (2)以水熱法制備的WO3納米棒為前驅(qū)體制備了大量WS2納米片。在尺寸效應(yīng)的作用下,WO3納米棒的氣化溫度遠(yuǎn)小于其體相材料。光學(xué)顯微鏡圖像表明,WS2納米片在生長(zhǎng)基底上分布密度較大,尺寸形貌較為統(tǒng)一,并存在單層及雙層兩種結(jié)構(gòu)。原子力顯微鏡(AFM)表征發(fā)現(xiàn),納米片中心部分發(fā)生刻蝕。Raman mappin

8、g數(shù)據(jù)表明產(chǎn)物中存在MoS2,說(shuō)明了刻蝕的機(jī)理為氣相MoO3與WS2反應(yīng),同時(shí)表明前驅(qū)體WO3納米棒為MoO3-WO3核殼結(jié)構(gòu),MoO3來(lái)源于水熱合成原材料中痕量Mo源的氧化。
  (3)為了控制WS2生長(zhǎng)位置,提高WO3前驅(qū)體的利用率,將前驅(qū)體在生長(zhǎng)基底上進(jìn)行圖案化,以圖案化的WO3前驅(qū)體制備了大量或大尺寸的WS2納米片。結(jié)果表明,圖案化的WO3前驅(qū)體豎線(xiàn)之間沉積了大量WS2納米片,通過(guò)調(diào)控硫蒸氣通入的時(shí)機(jī)獲得了大尺寸、獨(dú)立的W

9、S2三角形薄片。
  此部分研究為實(shí)現(xiàn)WS2的控制合成提供了新的途徑,并闡明了前驅(qū)體設(shè)計(jì)在制備二維過(guò)渡金屬硫族化合物中的作用。
  3.具有垂直取向邊緣的金屬性鐵磁體MoS2納米帶的制備。將水熱法合成的MoO3納米帶通過(guò)動(dòng)力學(xué)控制的硫化反應(yīng)制備得到MoS2納米帶,這種納米帶的表面具有大量垂直取向的邊緣,這一亞穩(wěn)定材料呈現(xiàn)出獨(dú)特的電學(xué)及磁學(xué)性質(zhì)。
  研究表明:
  (1)通過(guò)SAED、TEM及AFM等表征手段表明

10、,MoO3納米帶在硫化后結(jié)晶性由單晶轉(zhuǎn)變?yōu)槎嗑?,形貌保持完整,其表面存在大量垂直取向的層狀MoS2,硫化后表面變得粗糙。
  (2) Raman、XPS及XRD數(shù)據(jù)表明,MoO3納米帶被完全硫化為MoS2。拉曼峰強(qiáng)度比變化與XRD衍射峰變寬說(shuō)明了產(chǎn)物中存在垂直取向的MoS2。通過(guò)表征不同加熱溫度下MoS2納米帶的結(jié)構(gòu)與組成,證明了大量邊緣結(jié)構(gòu)為亞穩(wěn)定態(tài),并且可以在適宜的硫化溫度下通過(guò)動(dòng)力學(xué)控制的過(guò)程獲得。
  (3)電學(xué)及磁

11、學(xué)性質(zhì)測(cè)量的結(jié)果表明,制備得到的MoS2納米帶呈現(xiàn)出不同于2H-MoS2的金屬性與鐵磁性。而產(chǎn)生這種差別的原因在于這些垂直取向的層狀MoS2。在空氣中測(cè)量電學(xué)性質(zhì)過(guò)程中,MoS2納米帶會(huì)被測(cè)量過(guò)程中產(chǎn)生的焦耳熱氧化為水溶性鉬酸鹽;在測(cè)量磁學(xué)性質(zhì)時(shí),久置空氣中的樣品的磁化率會(huì)大大降低。這兩者都表明了所得邊緣為亞穩(wěn)定態(tài)。電感耦合等離子質(zhì)譜(ICP-MS)的應(yīng)用則排除了磁性雜質(zhì)對(duì)MoS2納米帶磁化率的影響。
  此部分的研究為制備亞穩(wěn)態(tài)

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