具有磁控特性的改性聚合物吸波涂層研究.pdf

1、隨著各種新型材料如左手材料、納米吸波材料和導(dǎo)電高聚物等的快速研制成功，以及不同領(lǐng)域新技術(shù)如等離子體、仿生和微波傳播指示等得到廣泛研究和應(yīng)用，有關(guān)實(shí)體目標(biāo)的低可探測(cè)技術(shù)取得了長(zhǎng)足的進(jìn)步，其中吸波涂層的應(yīng)用也開(kāi)啟了新一輪研究低可探測(cè)途徑的重要分支。
　　本文針對(duì)目前研究較多的被動(dòng)式磁控所存在的問(wèn)題，提出了主動(dòng)磁控的方法，通過(guò)改良工藝和特殊處理工藝，制備了以磁粉摻雜導(dǎo)電聚苯胺為吸收劑的具有即時(shí)調(diào)控性能的改性吸波涂層。實(shí)測(cè)結(jié)果顯示，涂層的

2、吸收性能得到提高，吸收頻帶得到展寬，更重要的是實(shí)現(xiàn)了吸收峰位置的可調(diào)，為未來(lái)的智能調(diào)控做出了重要探索。本文主要內(nèi)容由以下五個(gè)部分組成:
　　第一部分包括碩士論文工作的研究背景和研究現(xiàn)狀以及本論文的主要研究?jī)?nèi)容。具體介紹了吸波涂層應(yīng)用于低可探測(cè)技術(shù)的研究背景、吸波涂層的研究現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢(shì)、吸波涂層的可控現(xiàn)狀，列舉了國(guó)內(nèi)外相關(guān)領(lǐng)域?qū)W者們的研究成果，并針對(duì)目前存在的主要問(wèn)題和亟待解決的關(guān)鍵技術(shù)闡述本論文擬開(kāi)展的主要研究?jī)?nèi)容及創(chuàng)新點(diǎn)。

3、r>　　第二部分是與本論文工作密切相關(guān)的吸波涂層的電磁理論分析。主要分三個(gè)方面:一是單層吸波涂層的工作原理及涂層電磁損耗與電磁參數(shù)的關(guān)系;二是針對(duì)導(dǎo)電高聚物介紹了其導(dǎo)電機(jī)理與吸波機(jī)理;三是針對(duì)磁損耗材料闡述了其在磁場(chǎng)中的物理變化。本部分內(nèi)容奠定了全文的理論基礎(chǔ)。
　　第三部分主要介紹磁粉摻雜導(dǎo)電聚合物改性吸波涂層的研制，以及改良工藝和特殊處理工藝對(duì)涂層吸波性能以及磁控特性（吸收峰位置偏移）的影響。具體對(duì)改性吸波涂層的設(shè)計(jì)思想做了理

4、論分析，討論了材料選用的方案。為了提高改性涂層的吸波性能和可控性，對(duì)涂層制備工藝進(jìn)行了探索，主要分兩步，第一步在涂層制備前對(duì)材料進(jìn)行細(xì)化處理，使顆粒的大小與電磁波穿透深度相當(dāng)，有利于提高吸波性能和增強(qiáng)吸波可控性;第二步在涂層固化過(guò)程中對(duì)涂層施加磁場(chǎng)進(jìn)行磁化處理，從而增強(qiáng)涂層的表面磁場(chǎng)并改變涂層內(nèi)部的各向異性場(chǎng)，進(jìn)而改善涂層的吸波性能和調(diào)控性能。
　　第四部分重點(diǎn)對(duì)改性吸波涂層的磁控特性做了詳細(xì)研究，通過(guò)實(shí)測(cè)分析了涂層的反射衰減系數(shù)

5、和吸收峰位置在不同波段隨不同磁場(chǎng)的變化趨勢(shì)。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明隨著磁場(chǎng)的增強(qiáng)，涂層在吸收峰附近的反射衰減獲得增強(qiáng)，且磁場(chǎng)越強(qiáng)，變化得越快，其中經(jīng)過(guò)細(xì)化處理和磁化處理的樣品（導(dǎo)電聚苯胺∶鐵磁粉=3∶1）在16.8GHz吸收峰處的反射衰減變化最大，并且在13.3GHz附近吸收峰出現(xiàn)了最大偏移。另外，還實(shí)測(cè)對(duì)比分析了不同特殊處理工藝對(duì)改性涂層磁控特性的影響，結(jié)果與第三部分關(guān)于經(jīng)特殊工藝處理的涂層有利于其磁控調(diào)節(jié)的理論分析相一致，由此也驗(yàn)證了處理工藝