版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡介
1、在硅片制備各工序中,尤其是硅片的切割過程,會產(chǎn)生大量的廢棄硅屑。如何充分利用這些廢棄物,變廢為寶,成為各研究者關(guān)注的熱點(diǎn)。硅片切割鋸屑粒度較細(xì),經(jīng)簡單回收處理后具有高活性,無需做活化處理。
近年來,國內(nèi)外太陽能光伏產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展使坩堝涂層材料進(jìn)一步引人注目。研究探索使用一種經(jīng)濟(jì)簡便的方法,合成高純度的氧氮化硅粉末材料,具有實(shí)用意義與應(yīng)用前景。
在本論文中,我們以硅片切割鋸屑為原料,通過酸洗預(yù)處理提純后,與不同形態(tài)的固
2、態(tài)氧源SiO2進(jìn)行氣-固反應(yīng)合成氧氮化硅,并在此基礎(chǔ)上研究了以石英為固態(tài)氧源的熱爆合成實(shí)驗(yàn),包括對其熱力學(xué)條件的分析和動力學(xué)過程的探討。通過調(diào)節(jié)不同形態(tài)SiO2與鋸屑的摩爾配比、反應(yīng)溫度和反應(yīng)時(shí)間等參數(shù)制備氧氮化硅粉體;將制得的粉體,在優(yōu)化的企業(yè)涂覆工藝下制備涂層;用百格刀、鉛筆硬度計(jì)、激光共聚焦顯微鏡、環(huán)境掃描電鏡驗(yàn)證涂層性能。
研究結(jié)果表明:1380℃/4h,硅片切割鋸屑:氣相白炭黑配比為2.0:1-2.6:1條件下和14
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- Si2N2O陶瓷材料的制備和組織性能的研究.pdf
- Si2N2O陶瓷材料的合成及組織性能研究.pdf
- 高溫氮化合成Si2N2O及其對耐火材料性能的優(yōu)化研究.pdf
- 硅藻土提純與納米SiO2纖維制備及在Si2N2O合成中應(yīng)用.pdf
- Yb2Si2O7的制備及性能研究.pdf
- 白光LED用CaSi2O2N2和Ca4Si2O7F2基熒光粉的制備及性能研究.pdf
- 熔融石英坩堝的制備及其析晶行為研究.pdf
- Si-O和Si-O-N系統(tǒng)中硅量子點(diǎn)的結(jié)晶和發(fā)光性能研究.pdf
- Al2O3-ZrO2-Si3N4層狀復(fù)合陶瓷的制備與機(jī)械性能研究.pdf
- Ti-N及Si-N薄膜的制備及其性能研究.pdf
- Sr2Si5N8-Eu2+熒光粉的制備與后處理及其性能研究.pdf
- 親水鋁箔涂覆材料的制備及其膜的性能研究.pdf
- 粉末冶金制備Al-Si-Al2O3復(fù)合材料及其性能研究.pdf
- 粉末涂覆法制備CIGS光吸收層及其性能優(yōu)化.pdf
- 包覆式ZrB-,2--YAG-Al-,2-O-,3-陶瓷的制備及其性能評價(jià).pdf
- Al2O3-MgAl2O4紅外透明陶瓷制備工藝及其性能研究.pdf
- Ga2O3材料的制備及其性能研究.pdf
- β-Si3N4涂層的制備及高效多晶硅性能研究.pdf
- 硅銅合金團(tuán)簇(CuSi)n,(Cu2Si)n,(Cu5Si3)n的穩(wěn)定性.pdf
- 金屬連接體溶膠凝膠法涂覆MnCo2O4膜工藝與性能研究.pdf
評論
0/150
提交評論