飛秒激光微構(gòu)造MoS2表面微結(jié)構(gòu)及機制的探究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、MoS2是能夠剝離為二維單層單元的層狀半導體材料,與石墨烯類似,由層內(nèi)強的共價鍵以及層與層之間的范德瓦爾茲力結(jié)合而成,結(jié)構(gòu)穩(wěn)定,機械性能良好,表面沒有懸掛鍵,至今在潤滑劑、催化、能量存儲、復合材料等領域應用廣泛,最近研究表明MoS2具有可以調(diào)控的帶隙,即當MoS2體材料被機械剝離成為單層時,能帶將由間接帶隙(1.29 eV)轉(zhuǎn)變?yōu)橹苯訋?1.9 eV),這種獨特的性質(zhì)極大的拓展了其在場效應晶體管、傳感器及光電子器件領域的應用。因此基于

2、 MoS2新型器件的應用研究便非常依賴材料微納加工技術(shù)的發(fā)展。與此同時,飛秒激光以其與比傳統(tǒng)激光相比優(yōu)異的性能,也成為了一項新近發(fā)展的加工技術(shù)。
  本文基于飛秒激光(800 nm,120 fs,1 kHz)誘導單晶硅表面周期性結(jié)構(gòu)的研究,采用飛秒激光直寫加工技術(shù)和掃描電鏡(SEM)分析儀,詳盡的研究了新型半導體功能層狀材料 MoS2表面的微結(jié)構(gòu)形貌。實驗結(jié)果顯示,在低能流與高能流條件下,分別獲得整齊均勻且連續(xù)性好的深亞波長條紋(

3、DSRs)和近亞波長條紋(NSRs),且兩種條紋的多脈沖激光能流閾值分別為1.61 kJ/m2和1.95 kJ/m2。之后,進一步研究了兩種周期性條紋對激光脈沖數(shù)的依賴性,發(fā)現(xiàn)MoS2表面周期條紋不隨脈沖數(shù)變化,與J?rn Bonse等人在單晶硅表面的研究結(jié)論相違背,我們將此種特殊性結(jié)果歸因于 MoS2的層狀結(jié)構(gòu)易剝離性質(zhì)與其材料自身易升華的特性抑制了飛秒激光誘導 MoS2過程中超快熱融化造成的條紋抹平的結(jié)果。改變?nèi)肷滹w秒激光波長至40

4、0 nm,仍然得出類似結(jié)果。
  運用近場顯微拉曼技術(shù),探究了激光誘導MoS2前后表面的晶格結(jié)構(gòu)變化,譜線結(jié)果顯示,飛秒激光直寫 MoS2表面后,深亞波長條紋區(qū)域與近亞波長條紋區(qū)域沒有出現(xiàn)非晶、多晶或納米晶,材料也沒有被氧化的跡象,暗示了飛秒激光對 MoS2表面剩余結(jié)構(gòu)的損傷,幾乎都集中在層間結(jié)構(gòu)而沒有對層內(nèi)進行破壞。我們的研究證實了飛秒激光亞波長微納刻蝕二硫化鉬技術(shù)的可行性,同時為進一步探究飛秒與二維材料相互作用的物理機制提供了

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