有機半導體區(qū)域熔煉裝置中恒溫控制的設計與實現(xiàn).pdf

1、近幾十年以來，科學技術在各個領域飛速發(fā)展，電子工業(yè)、半導體行業(yè)等尖端技術對材料的要求非常高。材料本身的某種獨特性質往往會取決于它的雜質含量，純度越高的材料其性質在很大程度上也會改變，所以尖端行業(yè)對材料純度的要求特別高。
　　區(qū)域熔煉技術是材料物理提純的重要方法，它主要利用能穩(wěn)定熔化的晶狀物在液體與凝固體之間雜質濃度的差異來實現(xiàn)提純。經(jīng)過多年的研究，區(qū)域熔煉技術已經(jīng)發(fā)展成為高純度材料提純的重要方法。目前，大多數(shù)的無機、有機化合物能夠

2、利用該技術去除雜質，實現(xiàn)高純度的提取。
　　區(qū)域熔煉提純裝置中加熱器的溫度是關鍵的影響因素，加熱熔區(qū)需要達到能使材料進入熔融狀態(tài)穩(wěn)定融化的恒定溫度。本文深入研究了區(qū)域熔煉技術的原理，設計出適合提純裝置的恒溫控制系統(tǒng)，將恒溫系統(tǒng)的運行數(shù)據(jù)參數(shù)與PC實時傳輸，并且結合Labview設計出能夠動態(tài)畫出溫度曲線的虛擬儀器控制面板。
　　恒溫系統(tǒng)需要采用合適的控制算法，文中主要研究PID控制算法，由于環(huán)境的不斷變化，以加熱器為模型的控