Fe、Ni金屬單質(zhì)與Fe-Ni金屬納米多層膜的輻照損傷機(jī)理研究.pdf_第1頁
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1、金屬材料等在核電站反應(yīng)堆內(nèi)的高溫、高壓、輻照、腐蝕等極端惡劣環(huán)境下工作,極易引起材料輻照脆化,腫脹,蠕變等宏觀性能變化,導(dǎo)致機(jī)械性能下降而材料失效。研發(fā)安全性更高的新型材料、探索材料的輻照損傷機(jī)理是我國先進(jìn)核能技術(shù)發(fā)展道路上亟待解決的重要課題。本文針對(duì)Fe、Ni單質(zhì)金屬材料和Fe-Ni金屬納米多層膜材料,利用分子動(dòng)力學(xué)計(jì)算方法,開展了晶格取向、界面構(gòu)型、PKA入射能量等因素對(duì)材料輻照損傷的作用機(jī)理研究。
  主要研究內(nèi)容及結(jié)論如下

2、:
  1)建立不同晶格取向的Fe、Ni單質(zhì)金屬模型,模擬材料在100 K溫度、1-10 keV輻照PKA能量下的缺陷演化行為。研究結(jié)果表明,級(jí)聯(lián)碰撞過程中材料缺陷經(jīng)歷急速上升,達(dá)到峰值,繼而緩慢下降直到最終穩(wěn)定的過程;隨PKA能量增加,缺陷峰值、最終穩(wěn)定值都上升,并且達(dá)到缺陷峰值和最終穩(wěn)定值的過程時(shí)間也延長,這表明輻照 PKA能量的增加加劇了材料輻照損傷;不同晶格取向的Fe單質(zhì)或Ni單質(zhì)受相同PKA能量輻照時(shí),最終穩(wěn)定缺陷數(shù)目相

3、近,表明晶格取向?qū)Σ牧系妮椪論p傷影響不明顯;比較Fe、Ni兩種單質(zhì)輻照后缺陷數(shù),發(fā)現(xiàn)Ni的原子離位閾值比Fe原子高,相同能量下Ni原子離位概率小,因此在相同PKA能量輻照下,F(xiàn)e單質(zhì)的輻照損傷較Ni單質(zhì)嚴(yán)重。
  2)建立不同界面構(gòu)型的Fe-Ni金屬納米多層膜模型,分別模擬了KS、NW、Bain、Pistch四種界面構(gòu)型的金屬納米多層膜材料,在100 K溫度、1-10 keV輻照PKA能量下的界面損傷及界面兩側(cè)塊體中的缺陷演化行為

4、。研究結(jié)果表明,相同輻照條件下,四種界面構(gòu)型金屬納米多層膜塊體中缺陷數(shù)均比Fe、Ni單質(zhì)少,表明金屬納米多層膜材料具有良好的耐輻照能力;此多層膜材料的四種界面受輻照后均會(huì)產(chǎn)生不同程度的損傷,其中NW界面原子排列緊密、界面損傷較小,但不同界面兩側(cè)塊體中缺陷數(shù)目與界面構(gòu)型并無關(guān)聯(lián)關(guān)系。
  本文研究了不同晶格取向的Fe、Ni單質(zhì)金屬材料和不同界面構(gòu)型的Fe-Ni金屬納米多層膜材料的輻照損傷機(jī)理。研究結(jié)果將有助于提升我國核電工程耐輻照材

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