2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁
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文檔簡介

1、隨著特征尺寸的縮小,集成電路的技術(shù)節(jié)點已經(jīng)進入14nm以下,互連中的RC延遲和可靠性問題已經(jīng)成為制約芯片性能的主要因素,傳統(tǒng)的Ta/TaN阻擋層已經(jīng)不能滿足工藝發(fā)展的要求,需要研究新型超薄擴散阻擋層材料。本論文針對新型的CoMo合金阻擋/粘附層做了較為全面的研究,對其熱學、電學和拋光特性等方面性能進行了探究。
  我們首先研究了超薄CoMo互連體系的熱學穩(wěn)定性。測試了50nmCu/~5nmCoMo/Si樣品在退火前后的薄層電阻,發(fā)

2、現(xiàn)~5nm CoMo阻擋層在500℃30分鐘退火后仍然能夠保持其對銅擴散的阻擋性能,并且熱穩(wěn)定性良好。在超低K介質(zhì)襯底上(k=2.2),我們采用TEM與EDX測試相結(jié)合的方法,對剛淀積樣品和從400℃到500℃退火的樣品進行了表征,CoMo阻擋層對Cu具有較好的阻擋性能,退火后低K介質(zhì)襯底中沒有發(fā)現(xiàn)擴散的Cu元素,而相同厚度的Ta阻擋層樣品已經(jīng)失效。Cu/CoMo(1∶3)/Low-k樣品在600℃30分鐘退火后表面的Cu仍然保持光滑連

3、續(xù),沒有發(fā)生團聚現(xiàn)象,這說明CoMo與Cu之間具有較好的粘附性,適合作為銅互連中的粘附層材料。
  對CoMo阻擋層的電學性能,我們采用p-cap結(jié)構(gòu)進行了研究。利用p-cap結(jié)構(gòu)我們測試了阻擋層樣品的漏電流和擊穿場強等參數(shù),并測量了樣品在高溫下的I-V特性,~5nm CoMo(1∶3)樣品在150℃下的擊穿場強在6.3-7.4MV/cm,比Ta(3nm)/TaN(2nm)的擊穿場強高(5.9-7.1MV/cm);在任何3MV/c

4、m,5MV/cm和7MV/cm,150C測試條件下,CoMo樣品的經(jīng)時擊穿時間都小于Ta/TaN樣品的TDDB。。還采用了溫偏應力(BTS)測試法阻擋層樣品的C-V曲線平帶移動進行了表征,CoMo(1∶3)樣品在±1MV/cm150℃偏置600s后平帶偏移為2.1V,小于相同偏置下Ta(3nm)/TaN(2nm)的偏移2.24V。1MV/cm場強150℃下偏置300s后三角波掃描(TVS)測試中,CoMo(1∶3)阻擋層樣品中沒有出現(xiàn)明

5、顯的可動電荷峰,說明其對Cu有較好的阻擋性能。
  對CoMo的拋光性能進行了初步研究,發(fā)現(xiàn)在pH=3和pH=10下雙氧水可以促進CoMo的腐蝕。同時,我們發(fā)現(xiàn)乙二胺能夠抑制CoMo的靜態(tài)腐蝕,pH=3條件下5mL/L雙氧水體系中,1mL/L乙二胺可以將CoMo的靜態(tài)腐蝕速率由66.6nm/min降低到12.5nm/min。另外,甘氨酸可以將CoMo與Cu之間的接觸電位由0.228V降低為0.067V,抑制CoMo與Cu的電偶腐蝕

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