Ni-N薄膜材料的制備與性能表征.pdf

1、過(guò)渡金屬氧化物(NiO，TiO2，HfO2，CuxO)、固體電解質(zhì)(GeSe)、硅化物及部分有機(jī)物材料都被證實(shí)擁有阻變性質(zhì)。實(shí)際上，部分金屬氮化物材料（氮化銅、氮化鋁、氮化硅）擁有與過(guò)過(guò)渡金屬氧化物類似的電學(xué)性質(zhì)，他們都是新型阻變功能材料。提出采用等離子體浸沒(méi)注入、電子回旋共振等離子體輔助脈沖激光沉積等方法，制備氮化鎳薄膜材料，研究其結(jié)構(gòu)與性能之間的關(guān)系，并結(jié)合能帶計(jì)算方法，討論這一材料是否可能成為一種阻變材料。
　　采用等離子體

2、浸沒(méi)注入制備氮化鎳的研究中，首先使用脈沖激光沉積方法生長(zhǎng)Ni薄膜，再對(duì)其進(jìn)行氮離子注入的摻雜。通過(guò)控制注入電壓、注入時(shí)間制備了不同的氮化鎳薄膜。利用X射線衍射儀(XRD)、原子力顯微鏡(AFM)、霍爾(Hall)測(cè)試系統(tǒng)等測(cè)試手段，研究了注入時(shí)間、注入電壓、退火溫度對(duì)薄膜結(jié)構(gòu)、表面形貌和電學(xué)性能的影響。
　　本研究嘗試使用脈沖激光沉積法制備氮化鎳薄膜材料。通過(guò)控制氮?dú)夥謮褐苽淞瞬煌谋∧げ牧希妼W(xué)測(cè)試結(jié)果表明，本實(shí)驗(yàn)條件下，采用脈